发明名称 阴蔽罩之制造方法
摘要
申请公布号 TW083981 申请公布日期 1987.01.01
申请号 TW074102431 申请日期 1985.06.04
申请人 东芝股份有限公司 发明人
分类号 H01J29/81 主分类号 H01J29/81
代理机构 代理人 林敏生 台北巿南京东路二段一二五号七楼伟成第一大楼
主权项 1.一种阴蔽罩之制造方法,用来形成金属薄板之一面之开孔领域上之透孔与另一面之对应之开孔领域上之透孔领域上之透孔不相同之排列规则之多个透孔,主要包括,以耐刻蚀抗蚀膜披覆于金属薄板面之作为设定之开孔领域之部分后,将金属薄板刻蚀以形成凹部之前段工程,及以刻蚀抗蚀材料披覆于凹部后将另一面刻蚀之后段工程,其特征为:以刻蚀抗蚀材料披覆在包括前段工程之列蚀时形成之凹部在内之面上而予以保护,然后,只在金属薄板未具有刻蚀抗蚀材料之另一面,进行刻蚀而形成深达前段工程时形成之凹部之透孔之工程;及剥离上述耐刻蚀抗蚀膜及刻蚀抗蚀材料使金属板之包括开孔领域之两面露出而再度进行刻蚀之工程。2如请求专利部份第1项之阴蔽罩之制造方法,其中,位于金属薄板两面之开孔领域各具有大孔侧及小孔侧,将小孔侧以刻蚀抗蚀材料披覆。3.如请求专利部份第1项之阴蔽罩之制造方法,其中,先将包括凹部在内之一面之耐刻蚀抗蚀膜去除之后,将刻蚀抗蚀材料披覆在包括该凹部之一面。4.如请求专利部份第1项之阴蔽罩之制造方法,其中,再度刻蚀时系利用浸渍于刻蚀槽内之浸渍法。5.如请求专利部份第4项之阴蔽罩之制造方法,其中,将刻蚀槽内之刻蚀液搅拌而进行刻蚀。6.如请求专利部份第5项之阴蔽罩之制造方法,其中,以超音波进行搅拌。7.如请求专利部份第1项之阴蔽罩之制造方法,其中,以喷射刻蚀法进行再度刻蚀。
地址 日本国神奈川县川崎巿幸区堀川町七十二番地