发明名称 在金属基材上形成含有氟树脂薄膜之制法
摘要
申请公布号 TW083938 申请公布日期 1987.01.01
申请号 TW074100559 申请日期 1985.02.11
申请人 日建涂装工业股份有限公司 发明人
分类号 B05D7/16 主分类号 B05D7/16
代理机构 代理人 郑自添 台北巿敦化南路二段七十七号八楼
主权项 1.一种于金属基材表面形成一含氟树脂薄膜之方法,该含氟树脂系选自包含聚四氟乙烯/聚己丙烯共聚物,聚四氟乙烯/全氟丙乙烯醚共聚物及聚四氟乙烯,其步骤为(a)以该含氟树脂涂覆在金属基材之表面,(b)将被涂覆之金属基材置于一真空炉内,(c)使上述真空炉内呈一预设程度在含10-3Torr等级之范围内的部份真空,(d)将炉内真空氛围于一在自约330C至约420C范围内之预设加热温度下加热一段预设时间,(e)经上述预设时间之后,让炉内热真空氛围在保持炉内真空于上述范围内之情况下自动冷却至炉内温度达一较上述预设加热温度为低之预设预骤冷温度。(f)将具周围温度之一惰性气体引入上述炉中以使基材上涂布层骤冷。2.一于一金属基材表面形成一聚四氟乙烯/全氟丙基乙烯基醚共聚物薄膜之方法,包括步骤:(a)以聚四氟乙烯/全氟丙基乙烯基醚共聚物涂布金属基材之表面,(b)将被涂布之金属基材置于一真空炉内,(c)使上述真空炉内呈一预设程度在自10-3Torr等级至10-1Torr等级之范围内的部份真空,(d)将炉内真空氛围于一在自约330C至约400C范围内之预设加热温度下加热一段预设时间,(e)经上述预设时间之后,让炉内热真空氛围在保持炉内真空于上述范围内之情况下自动冷却至炉内温度达一较上述预设加热温度为低之预设预骤冷温度,上述预设预骤冷温度为在自约310C至约360C之范围内。(f)将具周围温度之一惰性气体引入上述炉中以使基材上之涂布层骤冷3.根据请求专利部份第2项之一方法,其中在让炉内热真空氛围在经上述预设时间后冷却时炉内之真空是保持于上述预设之程度。4.根据请求专利部份第2或第3项之一方法,其中在让炉内热真空氛围冷却之前,炉内之真空氛围是保持于上述预设加热温度一段在自约40分钟至约60分钟范围内之预设时间。5.根据请求专利部份第4项之一方法,其中上述聚四氟乙烯/全氟丙基乙烯基醚共聚物是以粒子状态施用于上述金属基材之表面。6.根据请求专利部份第4项之一方法,其中上述之金属基材为以一选自铁、铝、铜、铁合金、铝合金和铜合金之材料所制。7.依请求专利部份第4项之一方法,再纳入将上述金层基材表面粗糙化之步骤于以聚四氟乙烯/全氟丙基乙烯基醚共聚物涂布表面之步骤之前。8.根据请求专利部份第7项之一方法,再纳入将上述金属基材表面脱质之步骤于将基材表面粗糙化之步骤之前。9.根据请求专利部份第4项之一方法,其中上述之金属基材为以一选自铝和铝合金之材料所制,此方法再纳入将上述金属基材表面阳极化之步骤于以上述含氟树脂涂布金属基材表面之步骤之前,将基材表面粗糙化之步骤之后。10.一于一铝或铝合金基材表面形成一含氟树脂薄膜之方法,上述含氟树脂系选自由聚四氟乙烯/聚己丙烯共聚物和聚四氟乙烯/全氟丙基乙烯基醚共聚物所组成之组别中,此方法包括:(a)将上述基材表面粗糙化,(b)将基材粗糙化之表面阳极化,(c)以上述含氟树脂涂布基材阳极化之表面,(d)将被涂布之基材置入一真空炉中,(e)使上述真空炉中呈一预设程度在自10-3Torr等级至10-1Torr等级范围内之部份真空,(f)将炉内真空氛围于一在自约330C至约400C范围内之预设加热温度下加热一段预设时间。(g)经上述预设时间之后,让炉内热真空氛围在保持炉内真空放上述范围内之情况下自动冷却至炉内温度达一较上述预设加热温度为低之预设预骤冷温度,上述预设预骤冷温度为在自约310C至约360C之范围内。(h)将具周围温度之一惰性气体引入上述真空炉中以使基材上之涂布层骤冷。11.根据请求专利部份第10项之一方法,其中在让炉内热真空氛围在经上述预设时间后冷却时炉内之真空是保持于上述预设之程序。12.根据请求专利部份第10或第11项之一方法,其中在让炉内热真空氛围冷却之前,炉内之真空氛围是保持于上述预设加热温度一般在自约40分钟自约60分钟范围内之预设时间。13.根据请求专利部份第12项之一方法,其中上述含氟树脂是以粒子状态施用于上述基材之表面。14.根据请求专利部份第12项之一方法,再纳入将上述基材表面脱脂之步骤于将基材表面粗糙化之步骤之前。15.根据请求专利部份第12项之一方法,再纳入以热水处理上述基材之阳极化表面以封闭基材表面孔隙之步骤于以上述含氟树脂涂布基材表面之步骤之前。16.一于一金属基材表面形成一衆四氟乙烯薄膜之方法,包括步骤:(a)以聚四氟乙烯涂布金属基材之表面。(b)将被涂布之金属基材置于一真空炉内。(c)使上述真空炉内呈一预设程度在自10-3Torr等级之范围内之部份真空。(d)将炉内真空氛围于一在自约380C至约420C范围内之预设加热温度下加热一段预设时间。(e)经上述预设时间之后,让炉内热真空氛围在保持炉内真空于上述范围内之情况下自动冷却至炉内温度达一较上述预设加热温度低一预设値之预骤冷温度,上述预设预骤冷温度为在自约310C至约360C之范围内,上述预设値则在自约40C至约1OOC之范围内。(f)将具周围温度之一惰性气体引入上述真空炉中以使基材上之涂布层骤冷。17.根据请求专利部份第16项之一方法,其中在让炉内热真空氛围在经上述预设时间后冷却时炉内之真空是保持于上述预设之程度。18.根据请求专利部份第16或第17项之一方法,其中在让炉内热真空氛围冷却之前,将炉内之真空氛围保持于上述预设加热温度约30分钟。19.根据请求专利部份第18项之一方法,其中上述聚四氟乙烯是以分散溶液之状态施用于上述金属基材之表面。20.根据请求专利部份第18项之一方法,其中上述金属之基材为以一选自铁、铝、铜、铁合金、铝合金及铜合金之材料所制。21.根据请求专利部份第18项之一方法,再纳入将上述金属基材表面粗糙化之步骤于以聚四氟乙烯涂布表面之步骤之前。22.根据请求专利部份第21项之一方法,再纳入将上述金属基材表面脱脂之步骤于将基材表面粗糙化之步骤之前。23.根据请求专利部份第18项之一方法,其中上述之金属基材为以一选自铝和铝合金之材料所制,此方此再纳入将上述金属基材表面阳极化之步骤于以上述含氟树脂涂布金属基材表面之步骤之前,将基材表面粗糙化之步骤之后。
地址 日本