活性高分子的合成方法

摘要

本发明是一种使用基团转移聚合技术。可以在室温下进行的，合成活性高分子及嵌段共聚物的方法，适用的单体是α、β—不饱和羰基或腈基化合物，使用的引发剂是：Si、Ge或Sn的烯醇醚或其异构体，合成要有一定的催化剂体系存在才能进行。

主权项

1、一种活性高分子的合成方法：所说的方法适用的单体是： 及其混合物， 其中：-X是：-CN，-CH=-Y是：-H，-CH₃，-CN或-CO₂R，不过当X是-CH=时-Y是-H或-CH₃，X′是-OSi(R′)₃，-OR，-R或-NR^αR^β，各个R′是互不相关地选自于H或C₁～C₁₀的烃基，但是各个R′中至少要有一个不是H，R是C₁～C₂₀的烃基，或是一个碳数大于20的高分子取代基，所有以上所提及的取代基的碳链上也可含有一个或多个的醚氧原子，可含有一个或多个在聚合条件下无反应性的其它取代基，也可含有一个或多个通式为的反应性取代基，此处Y′是H或CH₃，Z^△是O或NR^β，各个R^α与R^β是互不相关地选自于C₁～C₄的烷基，所说的方法需要一种催化剂体系存在，所说的催化剂是含有F^-、HF^-₂，CN^-，N^-₃这些离子的化合物或是适当的Lewis酸， 所说的合成方法在-100℃～+150℃内进行，较合适的聚合温度：0℃～50℃，最佳聚合温度是室温， 所说的合成方法要有一种引发剂引发，本发明的特征是所说的引发剂是： (R′)₃MZ³或(R′)₂M(Z³)₂或O[M(R′)₂Z³]₂此处：各个R′是互不相关地选自于H或C₁～C₁₀的烃基，但是 各个R′中至少要有一个不是H， M是Si、Ge或Sn， 其中X′、X″是互不相关地选自于-OSi(R′)₃、-R³、-OR³或-NR^αR^β，此处： 各个R′是互不相关地选自于H或C₁～C₁₀的烃基，但是 各个R′中至少要有一个不是H， R是C₁～C₂₀的烃基，或是一个碳数大于20的高分子取代基，所有以上所提及的取代基的碳链上也可含有一个或多个醚氧原子，可含有一个或多个在聚合条件下无反应性的其其它取代基，也可含一个或多个通式为的反应性取代基，此外Y¹是H或CH₃，Z^▲是O或NR^β，各个R^α、R^β是互不相关地选自于C₁～C₄的烷基，R²、R³是互不相关地选自于C₁～C₁₀的烃基，碳链上可以含有一个或多个醚氧原子，也可以含有一个或多个在聚合条件下无反应性的其它取代基，而且R²可以是H。