发明名称 气相反应装置
摘要
申请公布号 TW089903 申请公布日期 1987.08.16
申请号 TW075208717 申请日期 1985.10.08
申请人 新力股份有限公司 发明人 林久雄;野田实也;森田靖
分类号 B01D7/02 主分类号 B01D7/02
代理机构 代理人 何金涂 台北巿大安区敦化南路二段七十七号八楼
主权项 1.一种气相反应装置,此种使单结晶气相成长的反应装置中,系由对水平成倾斜配置之板状容纳板、配设在容纳体晶片载置面背侧之高频感应线圈,藉高频感应线圈使容体上晶片加热之一手段、及对着晶片表面配置之一反应气体吹出手段所构成者。2.如请求专利部份第1项所述之气相反应装置,其中上述反应气体吹出手段之吹出角度系可自由旋转者。
地址 日本