| 主权项 |
1.一种感光性耐浸蚀膜处理液之制法,其包 括 (a) 将下式之三烷基胺 与下式化合物进行反应, X-(CH2CH2On)n-CH2CH2OH 其中, R,R1及R2相同或不同为具1 至5个碳原子之烷基, x为卤素原子,且 n为1至10之数目, 得到下式四级铵化合物 且 (b)将四级铵化合物之卤素原子交换成为氢 氧根原子; 或 (a')将下式之三烷基胺 与至少1莫耳当量之水及由2至 11莫耳当量之环氧乙烷进行反应 ,得到下式之四级氢氧化铵 其中,R,R1,R2,及n定义如 前, (c)将该四级氢氧化铵溶解于适当溶剂中。2.一种 如请求专利部份第1.项之制法,其中 ,该溶剂为水可溶混有机溶剂或其混合物 。3.一种如请求专利部份第1.项之制法,其中 ,R,R1及R2各自为甲基。4.一种如请求专利部份第2. 项之制法,其中 ,水可溶混有机溶剂为C1-C4-脂肪族醇 ,丙酮,丁酮,N一甲基一 咯烷酮,二 甲亚 ,N,N一二甲基甲醯胺或N,N 一二甲基乙醯胺。5.一种如请求专利部份第1.项之 制法,其中 ,(a)及(a')中任一反应步骤系在一溶 剂之存在下进行。6.一种如请求专利部份第1.项之 制法,其中 ,反应步骤(a)系于由50至200℃温度间进 行。7.一种如请求专利部份第1.项之制法,其中 ,反应步骤得到(a)之卤化物系由反应混合 物中单离出来且藉一溶剂纯化。8.一种如请求专 利部份第1.项之制法,其中 反应步骤(a)系于低于50℃之温度进行。9.一种感光 性耐浸蚀膜处理液,其包括 (a)下式I之四级氢氧化铵 其中, R,R1及R2相同或不同为具有l 至5个碳原子之烷基, x为卤素原子,且 n为1至10之数目;及 (b)水及/或水可溶混有机溶剂。10.一种如请求专利 部份第9.项之感光性耐侵 蚀膜处理液,其包括式I化合物,其中R ,R1及R2各自为具有1至3个碳原子 之烷基。11.一种如请求专利部份第10.项之感光性 耐侵 蚀膜处理液:其包括式I化合物,其中, R,R1及R2各自为甲基。12.一种如请求专利部份第9. 项之感光性耐侵 蚀膜处理液,其中该水可溶混有机溶剂为 C1-C4-脂肪族醇,丙酮,丁酮,N一甲 基一 咯烷酮,二甲亚 ,N,N一二甲 基甲酝胺或N,N一二甲基乙醯胺。13.一种如请求专 利部份第12项之感光性耐侵 蚀膜处理液,其中,该水可溶混有机溶剂 为丙酮或N一甲基一 咯烷酮。14.一种如请求专利 部份第9.项之感光性耐浸 蚀膜处理液,其中,该溶剂为水。 |
