| 主权项 |
1.一种供硬式磁碟机用而包括一滑动器本体及形成为与该滑动器本体成一体之一轭部的磁头磁心滑动器的数造方法,该滑动器本体具有一对其预定高度而间隔开之平行空气承受部,而该轭部具有一供与一磁性记录媒体滑动接触之轨道部妢,该轭部与该滑动器本体协同合作形成具有在该轨道部分之一顶表面上开口之预定磁间隙的一个封闭磁路,该方法包含下列步骤:制备形成该滑动器本体之一第一铁酸盐磁体块、及形成该轭部之一第二铁酸盐磁体块;将该等第一与第二磁体块抵接及黏结在一起,成为具有拱形成该等空气承受部与该轨道部分之一滑动表面的一个铁酸盐磁体条藉雷射诱转蚀刻术在该磁体条之该滑动表面上形成至少两道平行之轨道界定凹槽,使该等至少两道轨道界定凹槽延伸跨越在该等第一与第二磁体块间之一界面,该等至少两道轨道界定凹槽在其间界定出在垂直于该等凹槽延伸方向之一方向上具有一预定宽度的该轨道部分:舖覆一个蚀刻遮罩图型于该磁体条之该滑动表面上,而盖覆该滑动表面上对应于该等空气承受部与该轨道部分的部位;以及对该磁体条已舖覆遮罩之滑动表面行化学蚀刻,及因而形成该等空气承受部与包括该轨道部分的一个轨道突起部,使该等空气承受部及该轨道突起部具有相同高度。2.如申请专利范围第1项所述之方法,其中该等第一与第二磁体块界定该界面之毗接表面具有界定一数量之该磁间隙的各个间隙形成部,该方法更包含一个在该等磁体块被黏结在一起成为该磁体条之前施布一层金属磁性材料至该等第一与第二磁体块之该等间隙形成部中之至少一者的步骤。3.如申请专利范围第2项所述之方法,更包含下列步骤:在该金属磁性材料层施布之前先施布一个中问玻璃层至该等第一与第二磁体块之该等间隙形成部中之至少一者上,使该金属磁性材料系形成于该中间玻璃层上。4.如申请专利范围第2项所述之方法,更包含下列步骤:在金属磁性材料层施布之前先施布一中间层至该等第一与第二磁体块之该等间隙形成部中之至少一者上,使该金属磁性层系形成于该中间层上,而该中间层包含Fe、Ni及Co中的至少一种及其厚度不超过1000埃。5.如申请专利范围第1项所述之方法,其中藉雷射诱导蚀刻形成该至少二轨道界定凹槽的该步骤,系在施布该遮罩图型至该磁体条之该滑动表面上及对该磁体条之该受遮罩滑动表面行化学蚀刻的该等步骤之前施行。6.如申请专利范围第1项所述之方法,其中藉雷射诱导蚀刻形至少二轨道界定凹槽的该步骤,系在施布该遮罩图型至该磁体条之该滑动表面上及对该磁体条之该受遮罩滑动表面行化学蚀刻明该等步骤之后施行。7.如申请专利范围第1项所述之方法,其中该雷射诱导蚀刻手续系以波长为lum或更小的氩雷射光束施行。8.如申请专利范围第1项所述之方法,其中该雷射诱导蚀刻手续系将该磁体条置于压力为50~150Torr﹒之ccl4。氛围中而以30~300mw之雷射功率、10um之最大雷射光束直径、及2~60um/sec之扫描速率来施行。9.如申请专利范围第1项所述之方法,其中该雷射诱导蚀刻手续系将该磁体条置于浓度在10~90wt%之磷酸水溶液中而在最大雷射光束直径为50um、雷射功率P为50~1900mw、及扫描速率V为2~200um/sec,且其中V≦.031P+34及V≦-0.41P+271的条件下施行。10.如申请专利范围第1项所述之方法,其中该雷射诱导蚀刻手续系将该磁体条置于浓度为55~55wt%之KOH水溶液中而在最大雷射光束直径为20um、雷射功率P为50~1000mw、及扫描速率V为2~130um/sec,A其中V≦0.34P+13及V≦-0.19P+190的条件下施行。11.如申请专利范围第1项所述之方法,受包含在该遮罩图型被施布于该磁体条上之前使该磁体条接受一道预先热处理及一道预先化学蚀刻处理中之一项处理的步骤。12. 如申请专利范围第1项所述之方法,其中对该磁体条之该已遮罩滑动表面施行化学蚀刻的该步骤系在含有50~85重量百分比之磷酸的水溶液中施行。13. 如申请专利范围第1项所述之方法,其中该至少二轨道界定凹槽在该蚀刻遮罩图型被施布于磁体条之该滑动表面上时被填以一部分的该蚀刻遮罩。14. 如申请专利范围第1项所述之方法,其中该至少二轨道界定凹槽在该蚀刻遮罩图型被舖覆于该磁体条之该滑动表面上之前先被填以一种非磁性材料。15. 如申请专利范围第1项所述之方法,其中该轨道突起部系在该轨道部分之宽度方向被定置于该对空气承受部之间。16. 如申请专利范围第1项所述之方法,其中该轨道突起部系针对该对空气承受部中之每一者而设置,使得该轨道突起部在该轨道部分之长度方向与该每一空气承受部对齐。图示简单说明:第1图系硬式磁碟机习用单石型磁头磁心滑种器之一实例的立体图;第2~14图系为绘示依据本发明之一实施例构成之一方法之诸处理步骤的图面,其中第2(a)与2(b)口系分别绘示欲组合在一起之两铁酸盐磁体块的立体图;第3(a)与3(b)图系分别绘示已形成有供卷绕线圈之凹槽的两个铁酸盐磁体块的立体图;第4图系为示出已结合在一起成为一个整体铁酸盐磁体结构之两铁酸盐磁体块的立体图;第5图系为切割第4图之整体铁酸盐磁体结构得到之铁酸盐磁体条的立体图;第6图系为示出已形成有供界定轨道部分之宽度之轨道界定凹槽的铁酸盐磁体条的立体图;第7图系为已舖覆蚀刻遮置俾形成空气承受部与轨道突起部的数酸盐磁体条之片段平面图;第8(a)图系为沿第7图之线Ⅷ-Ⅷ取得之铁酸盐磁体条片段剖视图,第9图为铁酸盐磁体条之片段平面图,第10图为示出第9图之铁酸盐磁体条之一部位的放大,片段图面;第11图为示出数酸盐磁体条之切割线的片段平面图:第12图为示出已沿第11图之切割线切割过并已受推拔化处理之铁酸盐磁体条的片段平面图;第13图为铁酸盐磁体条之片段平面图第14图为示出自第13图之磁体条得到之一磁心滑动器的平面图;第15~18图系为示出依据本发明另一实施例构成之一方法之各步骤的图面,其中第15图为有一种非磁性材料植于轨道界定凹槽内之铁酸盐磁体条的立体图;第16图为已舖覆蚀刻遮罩之磁体条的片段平面口;第17口为沿第16图之线XⅦ-XⅦ取得的片段剖视图第18图为自此磁体条得到之一磁心滑动器的平面图;第19图与20图为示出依据本发明更一实施例之各步骤的图面,第19图为无轨道界定凹槽与蚀刻遮罩舖覆于其上之铁酸盐磁体条的片段平面图,而第20图为经蚀刻形成空气承受部与轨道突起部之磁体条的片段平面图;第21~25图为绘示本发明再一实施例之部分处理步骤的图面,其中第21与22图为分别示出舖覆于一磁体块上之蚀刻遮罩与经透过此等遮罩蚀刻后之磁体块的立体图;第23图为示出涂覆有金属磁性材料之经蚀刻过之磁体块的立体图;第24图为已形成有线围卷绕用凹槽之第23图所示磁体块的立体图;第25图为自第24图之磁体块制得之磁心滑动器的平面图;以及第26图为依据本发明又--实施例制成之磁心滑动器的平面图。 |
