| 发明名称 | 磁头抛光方法及其抛光机和该方法生产的磁头 | ||
| 摘要 | 磁头(40、40a、40b)是用抛光带导筒(11a、11b)导向并用抛光带成型导块(20a、20b)的内圆表面压在抛光带导筒(11a、11b)的抛光带(1)抛光的，抛光带成型导块设置在抛光带(1)外表面附近，以获得具有小的磁带接触面形状误差的磁头。该磁头抛光方法是借助用抛光带成型导块在抛光带的磁带移动侧上将抛光带(1)压紧在抛光带导筒(11a、11b)的抛光机实现的。 | ||
| 申请公布号 | CN1042618A | 申请公布日期 | 1990.05.30 |
| 申请号 | CN89108777.X | 申请日期 | 1989.11.04 |
| 申请人 | 株式会社日立制作所 | 发明人 | 於久常雄;落合雄二;真岛正 |
| 分类号 | G11B5/127;B24B35/00 | 主分类号 | G11B5/127 |
| 代理机构 | 中国专利代理有限公司 | 代理人 | 陶增炜 |
| 主权项 | 1、一种磁头(40、40a、40b)的磁带接触面的抛光方法，其中磁头伸出抛光带导筒(11a、11b)外圆规定外伸量(Δt)，抛光带(1)通过并由一对抛光带导筒(11a、11b)外表面导向，该抛光带导筒(11a、11b)彼此轴向相对，具有规定间隙(δ)，所述磁头夹持在所述间隙内，本发明的特征在于，在磁头(40、40a、40b)的磁带接触面抛光的同时，用具有圆形内表面的抛光带成形导块部件(20a、20b)将抛光带(1)宽度方向除面对磁头(40、40a、40b)部分外的上下圆周部位压在抛光带导筒(11a和11b)上。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||