| 主权项 |
1﹒辐射一敏感记录材料,其包括(i)一基质;且在该基质上依序涂敷有下列各层后(ii)一辐射一敏感层,该辐射敏感层包括有选自下列之组合物:(a)辐射解聚聚合物及(b)对光敏感之重氮邻,其系在与不溶于水,可溶于硷性水溶液之结合树脂之掺合物中,(iii)透明聚聚合物层,其系直接位于该辐射敏感层上,该聚聚合物具有下式I:其分子量之范围为由大约9,000至大约13,000,及(iv)光敏感层,其包括对光敏感之重氮邻,其系在与不溶于水,可溶于硷性水溶液之结合树脂之掺合物中,该光敏感层对于该辐射敏感层所不敏感之光谱区域敏感。2﹒如申请专利范围第1项之记录材料,其中之辐射敏感层系由含有C1到C4烷基异丁烯酸酯材料之辐射解聚聚合物组成。3﹒如申请专利范围第2项之记录材料,其中之解聚聚合物为聚甲基异丁烯酸酯。4﹒如申请专利范围第1项之记录材料,其中之辐射敏感层系由重氮邻与可溶于硷性水溶液,不溶于水之结合树脂混合组成。5﹒如申请专利范围第1或4项之记录材料,其中之辐射敏感层含有甲酚甲醛清漆树脂为结合树脂,和其中之重氮化物为酯一1,2一重氮一4一或5一磺醯氯化物与羟基二苯甲酮或羟基烷基苯酮缩合成。6﹒如申请专利范围第1.2.3或4项之记录材料,其中之光敏感层系由重氮邻与可溶于硷性水溶液,不溶于水之结合树脂混合组成。7﹒如申请专利范围第6项之记录材料,其中所述光敏感层含有甲酚甲醛清漆树脂为结合树脂,和重氮化物为一1,2一重氮一4一或5一磺醯氮化物与三羟二苯甲酮缩合成。8﹒一种生产影像之方法,包括构成申请专利范围第1.2.3.4、5.6或7项之记录材料,将光敏感层成像曝光于曝光能量,使用硷性显影剂水溶液以移去该光敏感层之已曝光区域,以不会将辐射或光敏感层之实际部分移去之溶剂将位于所述成像区域下方之聚层部分移去,使辐射敏感层对足够之成像能量成像曝光,而该能量实际上不可被光敏感层之未成像区域传送,然后移去辐射敏感层之成像区域,聚层和光敏感层之未成像部分。9﹒如申请专利范围第8项之方法,其中所述溶剂包括氯苯。10﹒如申请专利范围第8项之方法,其中辐射敏感层之之曝光系以X一射线,电子流或紫外线照射进行。 |
