| 主权项 |
1﹒一种制造N—膦醯甲基甘胺酸之方法,包括将N—膦醯甲基亚胺二醋酸与分子态之含氧气体接触,其间存在占总金属离子浓度为0﹒001至0﹒1莫耳浓度之触媒盐类,系选自锰、钴、铁、镍、铬、钌、铝、钼、钒及铈之盐及盐复合物及0﹒01至0﹒05莫耳浓度以下式表示之联啶化合物:其中R1及R2各别选自氢,具1至约6个碳原子的烷基,邻一伸苯基,且R1及R2可与选自具有1至约6个碳原子之烷撑基一起形成一桥,其中烷撑基桥可包含支键或双链:其为以下式表示之盐:其中R1及R2系如上所定义,Y为1或2,视是否X为双阴离子或单阴离子而定,且X系因自卤素离子,硫酸根、硝酸根、磷酸根及过氯酸根;且R3与R4分别选自氢或具有1至约6个碳原子之烷基,及R3与R4可与选自具有1至约6个碳原子之烷撑基起形成—桥,其中烷撑基桥可包含支键或双链。2﹒根据申请专利范围第1项之方法,其中联啶化合物为4,4'﹛@X联啶化合物。3﹒根据申请专利范围第2项之方法,其中R1及R2每个为甲基。4﹒根据申请专利范围第1项之方法,其中触媒系选自钴、锰、钒及鉓之盐。5﹒根据申请专利范围第4项之方法,其中触媒为钒盐。6﹒根据申请专利范围第4项之方法,其中触媒为钴盐。7﹒根据申请专利范围第1项之方法,其中Y为2且X为卤素离子。8﹒根据申请专利范围第7项之方法,其中X为溴离子。9﹒根据申请专利范围第1项之方法,其中R3及R4一起系选自具有1至约6个碳原子之烷基以形成桥俾提供以下式代表之联啶化合物:其中X为氯离子或溴离子且n为1到6。10﹒根据申请专利范围第9项之方法,其中n为2。11﹒根据申请专利范围第10项之方法,其中x为溴离子。12﹒根据申请专利范围第9项之方法触媒系选自钴、锰、钒及铈之盐。13﹒根据申请专利范围第9项之方法,其中触媒为钴盐。14﹒根据申请专利范围第9项之方法,其中触媒为钒盐。15﹒根据申请专利范围第1项之方法,其中N—膦醯甲基亚胺二醋酸系以浆液存在之。 |
