发明名称 光纤上之导电涂层之厚度之测量及控制
摘要 制造一具有涂层之光纤之方法包括于光纤上淀积一导电涂层以及测得此涂层之电导值。此制造方法之特征在于测量绝缘体上,导电涂层之厚度之方法,如光纤上之碳涂层,其包含下列步骤。藉由输入信号建立一电磁场。具有导电涂层之光纤被移动穿过此被激励之电磁场。绝缘体上之导电涂层乃依据电场来定位以便使他们的交互作用增加由输入至输出之传输损失。由此电磁场抽取一输出信号,由输出信号之变化再配合一预设之标准或参考,则可决定导电涂层之电导值和厚度。由测得之涂层厚度,可产生一动态控制其中一个或多个处理参数之控制信号以便由先驱气体中于绝缘体上淀积涂层。具有涂层之绝缘体可连续穿过此设备而不会有任何之实际碰触。制造过程不会发生任何干扰。
申请公布号 TW170762 申请公布日期 1991.10.11
申请号 TW079106275 申请日期 1990.07.30
申请人 电话电报公司 发明人 乔治.彼德森;雷蒙德.塔米那罗;罗伯特.亚特金斯
分类号 G01B11/02 主分类号 G01B11/02
代理机构 代理人 林敏生 台北巿南京东路二段一二五号七楼伟成第一大楼
主权项 1.一种用于决定一电介质材料的细长体上的涂层其主要为碳之厚度的方法,其包括下列步骤:(a)在一中空矩形的金属波导之部份中建立一电磁场,(i)该电磁场具有一振荡频率自10NH2至150GHz,且(ii)该波喷部份靛波导部份之相对端上之匹配的末端所终止,且具有一个开口在相对的板壁上以允许细长体横向通过与电磁对对齐的波导部份,没有与波导部份的壁部接触,(b)移动一导电地涂层的细长电介质体通过该开口,所以其通过电磁场,及(c)响应电磁场之锁化而产生一信号代表导电涂层之厚度。2.如申请专利范围第1项所述之方法包含:施加一糠入信号以建立一电磁场于波导中;自空的波导中之电磁场取出第一能量样品;移动涂层的细长电介质体通过波导,涂层与电磁场大致对齐:自包括涂层体之波导取出第二能量样品,此涂层体通过波导,涂层与电磁场大致对齐;及比较第c 能量样品与第一能量样品以决定涂层之厚度。开口是在波导之相对的宽壁中。3.如申请专利范围第1或2项所述之方法,其中该细长的电介体为一光娥,该振荡频率大约是10.5GHz。4.如申请专利范围第1项所述之方按,其中细长的电介质体是一光娥包含一,b线及一涂层,该涂层主要系包含碳用于气密地密封光娥,其中碳涂层系由以下之方法制造:将预成型的光织之至少一端部加热,并将材料自预成型的光娥之加热部份取出进入一细长的移动光娥;将此移动光娥暴兹至一气瞪的含碳化合物,使得此化合物猫应光娥中之热而分解,且主要包含元素碳之涂层沈淀在光跋之表面上,淇厚度厚到足以有效地气密地密封光织,且簿到足以避免碳涂层破裂,此破裂会导致光纤强度之减低;决定在移动的光娥上所沈淀的碳涂层之厚度;及响应所测量的电子特性,改变至少个处理因数以控制沈淀在移动光纤上之碳涂层的厚度,该因数至少是(a)移动光纤之温度;(b)含碳化合物之浓度,(c)含碳化合物之压力,与(a)光织暴露
地址 美国