发明名称 冷媒之处理及充填系统
摘要 一种冷媒之处理及充填系统,用以处理由初始冷媒产生的目标冷媒,此冷媒处理系统和充填系统包括有:分离设备(18,20和22),以分离原始冷媒成为气相冷媒成分和液相冷媒成分;第一供给管(12a),将气相冷媒成分做为目标冷媒供给到液化设备(24a),以便利用液体冷媒之蒸发而使该目标冷媒液化成为液体的目标冷媒;及第二供给管(12b),将液相冷媒成分做为液体冷媒供给到蒸发设备(24b)。该分离设备可包括有:一接收设备(18),用以接收原始冷媒做为收进媒一液凝设备(20)用以冷凝该收进冷媒成为凝结冷媒,以及一分离容器(22)。分离容器(22)系由分别界定顶部空间和底部空间之顶部及底部所构成;该顶部空间与底部空间互相连通,而在该容器内形成一中空空间。已翻新的冷媒系由液化设备(24a)输送到储存容器(26)内。为要使已翻新冷媒顺畅充填到该储存容器(26)内,储存容器的内部压力系受控制设备(30,31,32,33,34)之控制。
申请公布号 TW175511 申请公布日期 1991.12.21
申请号 TW079100426 申请日期 1990.01.20
申请人 三电股份有限公司 发明人 外丸敬一;龟 槷正男
分类号 F25B9/00 主分类号 F25B9/00
代理机构 代理人 何金涂 台北巿大安区敦化南路二段七十七号八楼
主权项 1.一种冷媒之处理及充填系统,用以处理取自原始冷媒之目标冷媒,此系统具有利用冷却用液体冷媒之蒸发作用使目标冷媒液化成液化目标冷媒之液化设备,其特征包括:分离设备,将原始冷媒分离成气相冷媒成份及液相冷媒成份:第一供给设备,连接于分离设备,以便将气相冷媒成份供到液化设备,以做为上述之目标泠媒;及第二供给设备,连接于分离设备,以便将液相冷媒成份供到液化设备,以做为上述之液体冷媒。2.如申请专利范围第1项所述之冷媒之处理及充填系统,其中分离设备含有:接收设备,用以接收原始冷媒;凝结设备,连接于接收设备以便将原始冷媒凝结成凝结冷媒;分离容器,此容器具有顶部及底部分别界定顶部空间及底部空间,该两空间彼此相连在分离容器内形成一中空空间;该分离容器连接于凝结设备,以便将凝结设备送来之凝结冷媒分离成气相及液相冷媒成份;该顶部连接于第一供给设备;该底部连接于第二供给设备。3.如申谓专利范围第1项所述之冷媒之处理及充填系统,其中液化设备含有:液化容器,其内形成有热传空间;蒸发器,此蒸发器与该热传空间结合该液化容器连接于第一供给设备,以便接收气相冷媒成份;该蒸发器连接于第二供给设备,俾使该液相冷媒成份蒸发。4.如申请专利范围第1项所述之冷媒处理及充横系统,更包括:配置在液化设备之下方的储存容器及连接储存容器及液化容器之间俾使液化目标冷媒滴入储存容器内之滴落设备。5.如申请专利范围第4项所述之冷媒处理及充填系统,更包括:连接于液化设备以便控制液化目标冷媒之状况俾使液化目标冷媒充填到储存容器内之控制设备。6.如申请专利范围第5项所述之冷媒处理及充填系统,其中控制设备含有:检测设备,连结于液化容器以便检测液化自标冷媒之某一存量;调整设备,连接于检测设备及滴落设备,以便响应于液化目标冷媒之该某一存量而调整滴落设备。7.如申请专利范围第6项所述之冷媒处理及充填系统,更包括通气设备,此通气设备连接于储存容器,俾使储存容器内之剩余气泄放。8.如申请专利范围第3项所述之冷媒处理及充填系统,更包括:配置在液化容器之下方的储存容器,连接储存容器及液化容器之间之滴落设备,以及连接于储存容器以便控制储存容器之内压,俾使液化目标冷媒经由滴落设备充填到储存容器内之控制设备。9.如申请专利范围第1项所述之冷媒处理及充填系统,更包括连接于分离设备以便将原始冷媒供给分离设备之原始供给设备。10.如申请专利范围第9项所述之冷媒处理及充填系统,其中控制设备含有连接储存容器及原始供给设备之间,俾使储存容器之内部空间与原始供给设备相连通的连通设备。11.如申请专利范围第10项所述之冷媒处理及充填系统,其中控制设备更含有:检测设备,连接于原始供给设备以便检测原始冷媒之状况而发生状况信号;及调整设备,连接于检测设备及连通设备,以便响应于状况信号而调整该连通设备。12.如申请专利范围第10项所述之冷媒之处理及充填系统,其中原始供给设备含有连接蒸发器及分离设备之间俾使冷却用冷媒自蒸发器回流至分离设备的回流设备,且该连通设备连接于该回流设备,以使储存容器之内部空间与回流设备相通。13.如申请专利范围第10项所述之冷媒之处理及充填系统,其中连通设备含有:连接储存容器之内部空间及原始供给设备之间的连通路;及设于连通路以便调整该连通路之调整设备。14.如申请专利范围第12项所述之冷媒之处理及充填系统,其中原始设备含有连接于回流设备俾使原始冷媒导入回流设备之导入设备。15.如申请专利范围第12项所述之冷媒之处理及充填系统,受包括:设在回流设备以便检测冷却用冷媒之温度并且发生温度信号之温度检测设备;及设在第二供给设备以便响应于温度信号而调整液相冷媒流量之流量调整设备。16.如申请专利范围第8项所述之冷媒之处理及充填系统,其中控制设备含有连接储存容器及液化容器之间,以使储存容器之内部空间与该热传空间之空部相通之连通设备。17.如申请专利范围第16项所述之冷媒之处理及充填系统,更包含:连接蒸发器及分离设备之间,俾使冷却用冷媒自蒸发器回流至分离设备之回流设备:设在回流设备以便检测该冷却用冷媒之温度以发生温度信号之温度检测设备;及设在第二供给设备以便响应于该温度信号而调整液体冷媒流量之流量调整设备。18.如申请专利范围第1项所述之冷媒处理及充填系统,进一步具有信号产生装置,连结于外部冷冻回路以便响应于该外部冷冻回路之内压而产生压力信号;供给装量,连接于该外部冷冻回路及该分离设备,以便响应于该压力信号而将原始冷媒从外部冷冻回路供给到分离设备。19.如申请专利范围第18项所述之冷媒处理及充填系统,其中该信号产生装置含有:感测器,连结于外部冷冻回路,以便侦测外部冷冻回路之内压是否低于大气压,当低于大气压时则产生内部信号;及传输构件,连接于感测器以将该内部信号传输到供给装置作为压力信号。图示简单说明:第1图为本发明冷媒处理充填系统之第一实施例的方块图,第2图为第二实施例的方块图,第3图为第三实施例的方块图,第4图为第四实施例的方块图。
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