发明名称 |
DEVICE AND METHOD FOR PLASMA PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICE |
摘要 |
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申请公布号 |
JPH0423429(A) |
申请公布日期 |
1992.01.27 |
申请号 |
JP19900126982 |
申请日期 |
1990.05.18 |
申请人 |
MITSUBISHI ELECTRIC CORP |
发明人 |
NAKAKUMA SHINJI;BANJO TOSHINOBU |
分类号 |
C23F4/00;C23C16/509;H01J37/32;H01L21/205;H01L21/302;H01L21/3065 |
主分类号 |
C23F4/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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