| 主权项 |
1.一种皮革处理剂,包括上油剂及含氟油,该上油剂与含氟油之重量比为10:1至1:2。2.如申请专利范围第1项之皮革处理剂,其中该含氟油系选自下列组群之至少一种:(1)包括下式重复单元之过氟聚醚:(2)包括下式重复单元之过氟聚醚:其中p、q及r均系整数,且总和不小于2及不大于200;(3)包括下式重复单元之聚氟醚:其中a、b、c、d、e及f系0或正整数,并满足方程式:2<a+b+c+d+e+f<200及a+c+d+f≧1,及(4)包括下式重复单元之化合物:3.如申请专利范围第1项之皮革处理剂,其中该上油剂为具有可与鞣制皮革中所含之金属化合物反应之官能基者。4.如申请专利范围第1项之皮革处理剂,其中该上油剂系选自下列组群之至少一种:具有氟烷基、氟烯基或氟醚基之磷酸酯、膦酸衍生物及次膦酸衍生物,及其铵盐、硷金属盐及硷土金属盐,及该磷酸酯、膦酸衍生物或次膦酸衍生物与硷金属及硷土金属以外之金属反应所得之反应产物。5.如申请专利范围第4项之皮革处理剂,其中,具有氟烷基、氟烯基或氟醚基之磷酸酯,或其铵盐、硷金属盐、硷土金属盐或与其他金属化合物反应产生之盐类为下式之化合物或其中,Rf系C3-C21氟烷基、C3-C21氟烯基或C3-C21氟醚基、M系硷金属、硷土金属或其他金属、铵基或经取代之铵基,R1系C1-C5烷基、R2系C1-C10伸烷基或下式之基:-CH2CH(OR5)CH2-其中R5系氢原子或C1-C10醯基,-CH2CH(OH)-或-CH=CHCH2-其中R3系氢原子或C1-C5烷基,R4系C1-C10伸烷基;j系1.2或3;y系0.1或2但不大于(3-j);k系0.1或2但不大于3-(j+y),及t系3-(j+y+k)。6.如申请专利范围第5项之皮革处理剂,其中该磷酸酯或其盐类系:7.如申请专利范围第4项之皮革处理剂,其中该具有氟烷基、氟烯基或氟醚基之膦酸衍生物及其与金属化合物反应之反应产物,为下式之化合物其中Rf、R1.R2及M与申请专利范围第5项之定义相同,m系0.1或2;n系0.1或2但不大于(2-m);及u系2-(m+n)。8.如申请专利范围第7项之皮革处理剂,其中该膦酸衍生物及其盐类系:9.如申请专利范围第4项之皮革处理剂,其中,该具有氟烷基、氟烯基或氟醚基之次膦酸衍生物及其与金属化合物之反应产物,系下式之化合物:其中Rf、R1.R2及M与申请专利范围第5项之定义相同,p系1或2;q系2-p;s系0或1;r系0或1但不大于(1-r);及v系1-(s+r)。10.如申请专利范围第9项之皮革处理剂,其中该次膦酸衍生物或其盐类系:11.如申请专利范围第1项之皮革处理剂,其中该上油剂系具下式之含氟羧酸:Rf(CH2)nCOOH其中,Rf之定义与上述相同,n系1至10之数;或其盐。12.一种处理皮革之方法,包括在上油处理步骤中,以含有上油剂及含氟油之如申请专利范围第1项的皮革处理剂处理皮革。13.如申请专利范围第12项之方法,其中该含氟油系选自下列组群之至少一种:(1)包括下式重复单元之过氟聚醚:(2)包括下式重复单元之过氟聚醚:其中p、q及r均系整数,且总和不小于2及不大于200;(3)包括下式重复单元之聚氟醚:其中a、b、c、d、e及f系0或正整数,并满足方程式:2≦a+b+c+d+e+f≦200及a+c+d+f≧1;及(4)包括下式重复单元之化合物:-(CF2CFCl)n-14.如申请专利范围第12项之方法,其中该上油剂系选自之下列组群之至少一种:具有氟烷基、氟烯基或氟醚基之磷酸酯、膦酸衍生物及次膦酸衍生物,或其铵盐、硷金属盐及硷土金属盐,及该磷酸酯、膦酸衍生物或次膦酸衍生物与硷金属及硷土金属以外之金属化合物反应所得之反应产物。15.如申请专利范围第14项之方法,其中该具有氟烷基、氟烯基或氟醚基之磷酸酯,或其铵盐、硷金属盐、硷土金属盐或与其他金属化合物反应之盐类系下式之化合物或其中,Rf系C3-C21氟烷基、C3-C21氟烯基或C3-C21氟醚基,M系硷金属、硷土金属或其他金属、铵基或经取代之铵基,R1系C1-C5烷基、R2系C1-C10烯基或下式之基:-CH2CH(OR5)CH2-其中R5系氢原子或C1-C10醯基,-CH2CH(OH)-、-CONR6-其中R6系C1-C5烷基,-CH=CHCH2-或-CH2CHXCH2-其中x系卤素原子、R3系氢原子或C1-C5烷基、R4系C1-C10伸烷基、j系1.2或3;y系0、1或2但不大于(j-1);k系0.1或2但不大于3-(j+y);及t系3-(j+y+k)。16.如申请专利范围第15项之方法,其中该磷酸酯或其盐类系:17.如申请专利范围第14项之方法,其中该具有氟烷基、氟烯基或氟醚基之膦酸衍生物及其与金属化合物反应之反应产物系下式之化合物:其中Rf、R1.R2及M与申请专利范围第5项之定义相同,w系1或2;x系1或2;m系0.1或2;n系0.1或2但不大于(2-m),及u系2-(m+n)。18.如申请专利范围第17项之方法,其中该膦酸衍生物或其盐类系:19.如申请专利范围第14项之方法,其中该具有氟烷基、氟烯基或氟醚基之次膦酸衍生物及其与金属化合物反应之反应产物系下式之化合物:其中Rf、R1.R2及M与申请专利范围第5项之定义相同,p系1或2;q系2-p;s系0或1;r系0或1但不大于(1-r);及v系1-(s+r)。20.如申请专利范围第19项之方法,其中该次膦酸衍生物或其盐类系:21.如申请专利范围第12项之方法,其中该上油剂系具下式之含氟羧酸:Rf(CH2)nCOOH其中Rf与申请专利范围第5项之定义相同,n系0至10之数;或其盐。22.一种处理皮革之方法,包括对皮革上油,然后以包括含氟油之如申请专利范围第1项的皮革处理剂处理上油过之皮革。23.如申请专利范围第22项之方法,其中该含氟油系选自下列组群之至少一种:(1)包括下式重复单元之过氟聚醚:(2)包括下式重复单元之过氟聚醚:其中p、q及r均系整数,且总和不小于2且不大于200;(3)包括下式重复单元之聚氟醚:其中a、b、c、d、e及f系0或正整数,并满足方程式:2≦a+b+c+d+e+f≦200及a+c+d+f≧1,及(4)包括下式重复单元之化合物:-(CF2CFCl)n-24.如申请专利范围第22项之方法,其中该上油剂系选自下列组群之至少一种:具有氟烷基、氟烯基或氟醚基之磷酸酯、膦酸衍生物及次膦酸衍生物,或其铵盐、硷金属盐及硷土金属盐,及该磷酸酯、膦酸衍生物或次膦酸衍生物与硷金属及硷土金属以外之金属化合物反应所得之反应产物。25.如申请专利范围第24项之方法,其中该具有氟烷基、氟烯基或氟醚基之磷酸酯或其铵盐、硷金属盐、硷土金属盐或与其他金属化合物反应所得之盐系下式之化合物:其中,Rf系C3-C21氟烷基、C3-C21氟烯基或C3-C21氟醚基,M系硷金属、硷土金属或其他金属、铵基或经取代之铵基,R1系C1-C5烷基、R2系C1-C10伸烷基或下式之基:-CH2CH(OR5)CH2-其中R5系氢原子或C1-C10醯基,-CH2CH(OH)-,-CONR6-,其中R6系C1-C5烷基,-CH=CHCH2-或-CH2CHXCH2-,其中x系卤素原子、R3系氢原子或C1-C5烷基、R4系C1-C10伸烷基、j系1.2或3;y系0.1或2但不大于(j-1);k系0.1或2但不大于3-(j+y);及t系3-(j+y+k)。26.如申请专利范围第25项之方法,其中该磷酸酯或其盐系:27.如申请专利范围第24项之方法,其中该具有氟烷基、氟烯基或氟醚基之膦酸衍生物及其与金属化合物反应之反应产物系下式之化合物:其中Rf、R1.R2及M与申请专利范围第5项之定义相同,w系1或2;x系1或2;m系0.1或2;n系0.1或2但不大于(2-m);及u系2-(m+n)。28.如申请专利范围第27项之方法,其中该膦酸衍生物或其盐类系:29.如申请专利范围第24项之方法,其中该具有氟烷基、氟烯基或氟醚基之次膦酸衍生物及其与金属化合物反应之反应产物系下式之化合物:其中Rf、R1.R2及M与申请专利范围第5项之定义相同,p系1或2;q系2-p;s系0或1;r系0或1但不大于(1-r);及v系1-(s+r)。30.如申请专利范围第29项之方法,其中该次膦酸衍生物或其盐系:31.如申请专利范围第22项之方法,其中该上油剂系下式之含氟羧酸:Rf(CH2)nCOOH其中Rf与申请专利范围第5项 |
