| 主权项 |
1.一种含有下式(Ⅰ)之药学上可接受甲烷二膦酸衍生物及其盐类之局部治疗制剂,其中R1和R2为氢或C1-C3烷基;其系以酊剂,乳液、软膏剂型存在或经皮给药用多层状治疗物系之剂型存在,其包含有下列组成:(1)一密闭式背箔其系可穿透于活性成份配方之接续层组成,(2)一活性成份用储蓄器系邻接于背箔,在粘着箔不含有活性成份,(3)一粘着层及(4)一剥离保护箔。2.如申请专范围第1项之局部治疗制剂,系包含3-胺基-1-羟丙烷-1,1-二膦酸或其药理上可接受之盐。3.如申请专范围第1项之局部治疗制剂,系包含3-二甲胺基-1-羟丙烷-1,1-二膦酸或其药理上可接受之盐。4.如申请专利范围第1项之局部治疗制剂,系包含3-(N-甲基-N-正丙胺基)-1-羟丙烷-1,1-二膦酸或其药理上可接受之盐。5.如申请专利范围第1至4项中任一项之局部治疗制剂,系呈乳液,胶剂,软膏,洗剂,糊剂,泡沫剂,酊剂,微乳剂或液剂者。6.如申请专利范围第1至4项中任一项之局部治疗制剂,系呈架阵或膜片型之多层状治疗物系之经皮用药形式者。7.如申请专利范围第1至4项中任一项之局部治疗制剂,其 |
