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发明名称
化合物半导体装置及其表面处理加工方法
摘要
依据本发明,在Ⅲ-V族化合物半导体表面上形成凹凸以防全反射,而在凹凸表面上形成SiNx膜。因此可藉表面凹凸来提高外部量子效率。再者,由于SiNx膜设在凹凸上,增加粘合强度。结果是,防止SiNx膜剥离,改进抗湿性,以及由防止氧化而延长LED之有效寿命。
申请公布号
TW184327
申请公布日期
1992.05.21
申请号
TW079105076
申请日期
1990.06.20
申请人
三菱化成股份有限公司
发明人
井深敏彦;野口雅弘
分类号
H01L21/20
主分类号
H01L21/20
代理机构
代理人
赖经臣 台北巿南京东路三段三四六号白宫企业大楼一一一二室
主权项
地址
日本
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