| 摘要 |
일실시형태의 성막 장치에서는, 배치대가 축선 중심으로 회전 가능하게 설치되어 있다. 배치대를 수용하는 처리실은 제1 영역 및 제2 영역을 포함한다. 배치대의 회전에 따라 상기 배치대의 기판 배치 영역이 축선에 대하여 둘레 방향으로 이동하여 제1 영역 및 제2 영역을 순서대로 통과한다. 제1 가스 공급부는, 배치대에 대면하도록 설치된 분사부로부터 제1 영역에 전구체 가스를 공급한다. 배기부는, 분사부의 주위를 둘러싸는 폐로를 따라 연장되도록 형성된 배기구로부터 배기를 행한다. 제2 가스 공급부는, 배기구의 주위를 둘러싸는 폐로를 따라 연장되도록 형성된 분사구로부터 퍼지 가스를 공급한다. 플라즈마 생성부는, 제2 영역에서 반응 가스의 플라즈마를 생성한다. 이 성막 장치에서는, 제1 영역이 상기 축선에 대하여 둘레 방향으로 연장되는 각도 범위보다, 제2 영역이 상기 축선에 대하여 둘레 방향으로 연장되는 각도 범위가 크다. |
