SILICONE MATERIAL CURABLE SILICONE COMPOSITION AND OPTICAL DEVICE

摘要

본 발명은, X선 광전자 분광법(ESCA)에 따른 실리콘 재료 표면의 원소 조성 백분율에 있어서 하기 조건들 중 어느 하나를 만족하는 실리콘 재료에 관한 것이다: (i) 탄소 원자들의 원소 조성 백분율이 50.0 내지 70.0원자%인 조건; (ii) 규소 원자들의 원조 조성 백분율에 대한 탄소 원자들의 원소 조성 백분율의 비(C/Si)가 2.0 내지 5.0인 조건; 또는 (iii) 상기 조건 (i) 및 (ii) 둘 다인 조건. 상기 실리콘 재료는 광 및 열에 안정하여 투과율의 감소 및 균열 생성이 발생하는 경향이 없다.