THE METHOD FOR FORMING A INORGANIC THIN LAYER ON THE OLED

摘要

본 발명은 물(HO)을 이용한 원자층 증착방법으로 유기발광소자 기판 상에 산화알루미늄 박막을 효율적으로 형성하면서도 완벽한 수분 제거 공정을 통하여 유기발광소자의 손상을 방지할 수 있는 유기발광소자 기판 상에 산화알루미늄 박막을 원자층 증착 방법으로 형성하는 방법에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 유기발광소자 기판 상에 산화알루미늄 박막을 원자층 증착 방법으로 형성하는 방법은, 1) 유기발광소자가 형성된 기판을 준비하는 단계; 2) 공정가스 공급부와 공정가스 배출부가 구비된 진공 챔버 내의 기체를 배출하는 배기라인에 수분 제거 트랩을 설치하는 단계; 3) 상기 진공 챔버 내부에 상기 기판을 반입하는 단계; 4) 상기 수분 제거 트랩 전단의 게이트 밸브를 개방하여 상기 진공 챔버 내의 수분을 제거하는 단계; 5) 상기 기판 상에 H2O를 공정가스로 사용하여 산화알루미늄 박막을 원자층 증착방법으로 형성하는 단계; 6) 상기 수분 제거 트랩 전단의 게이트 밸브를 개방하여 박막 증착 공정이 완료된 상기 진공 챔버 내의 수분을 제거하는 단계;를 포함한다.