| 主权项 |
1﹒一种共振镜包含:一基底,其有一顶面;一可偏转镜元件,大致与该顶面在同一平而;以及至少二支持元件,用以在邻近该顶面处垂吊镜元件,该二支持元件界定一旋转轴,至少该二支持元件之自该镜之边缘移开。2﹒根据申请专利范围第1项之共振镜,另包含至少一在第一方向自旋转轴向外移开之第一电极,供于第一电极电连接至第一电压源及该镜电连接至第二电压源时,周期性导致该镜绕旋转轴旋转。3﹒根据申请专利范围第2项之共振镜,另包含一与镜元件在相同电位之止档,该止档自第一电极向外移开,因而上述镜元件在着陆于第一电极前,先着陆于该上档。4﹒根据申请专利范围第2项之共振镜,另包含一在第二方向自旋转轴向外移开之第二电极,该第二方向大致相反于第一方向,该第二电极于第二电极连接至一第三电压源时,周期性导致该镜绕旋转轴旋转。5﹒一种共振镜包含:一基底,其有一顶面;静电可偏转镜元件;至少二支持元件,用以在该顶面邻近处垂吊镜元件,该二支持元件界定一旋转轴,至少该二支持元件之一自该镜之边缘移开至少二自旋转轴向外移开之电极,用以根据输入之讯号使镜元件绕旋转轴旋转,第一电极在第一方向移开,第二电极在第二方向移开,第一及第二方向大致为彼此相反;以及至少二止档在第一及第二电极向外移开,因而使镜元件在着陆于第一或第二电极前,先着陆于上档。6﹒一种在基底上制造共振镜的方法,包括步骤:在基底上制造出至少一支持垫;在该支持垫上沉积一间隔层;暴露该支持垫;沉积一铰链层在间隔层与暴露之支持垫之上;以一蚀刻上档涂布在铰链层之一部份上;沉积一镜层在已涂布之铰链层之上;选择性蚀刻镜层与铰链层,以便产生一具有至少二支持元件之镜,至少二支持元件之一系自该镜之边缘移开;及去除该间隔层。7﹒根据申请专利范围第6项之方法,其中,该沉积一间隔层之步骤又包括沉积一光罩层之步骤。8﹒根据申请专利范围第7项之方法,其中,该沉积一铰链层与一镜层之诸步骤又包括步骤:沉横─Ti:Si:Al之铰链层;及沉积─Ti:Si:Al之镜层。9﹒根据申请专利范围第6项之方法,其中,该沉积一铰链层与一镜层之诸步骤又包括步骤:沉积─Ti:Si:Al之铰链层;及沉积─Ti:Si:Al之镜层。10﹒一种在基底上制造共振镜之方法,包括步骤:形成一可转动镜;及形成至少二支持元件用以在邻近基底处支持该镜,二支持元件构成一转动轴,至少二支持元件之一自该镜的边缘移开。11﹒根据申请专利范围第10项之方法,又包括:在该基底上沉积一间隔层;及在形成可变形镜之后,去除该间隔层。12﹒根据申请专利范围第11项之方法,其中,该二形成步骤又包括:形成至少─Ti:Si:Al之支持垫;及形成─Ti:Si:Al之可变形镜。13﹒根据申请专利范围第10项之方法,其中,该二形成步骤又包括:形成至少─Ti:Si:Al之支持垫;及形成─Ti:Si:Al之可变形镜。简示筒单说明:图1以透视图说明本发明之第一实施例;图2以透视图说明图1中之镜元件;图3及4分别以图2中沿线3一3及4一4之剖视图说明镜元件;图5a一5f以剖视图说明图2中镜元件之制造顺序步骤;图6以透视图说明木发明之第二实施例;图7以图6中沿线7一7之剖视图说明本发明之第二实施例;图8以透视图说明木翌明之第三实施例;以及图9以图8中沿线9一9之剖视图说明本发明之第三实施例。 |
