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<p>Procédé de production d'une structure diélectrique périodique présentant une bande interdite photonique. On forme des trous d'alignement dans une tranche de matériau diélectrique présentant une orientation des cristaux donnée. Ensuite, on forme une couche plane de tiges allongées dans une section de la tranche. La formation des tiges comprend l'étape consistant à éliminer sélectivement le matériau diélectrique de la tranche située entre les tiges. La formation de trous d'alignement et de couches de tiges allongées et de tranches est ensuite répétée afin de former une pluralité de tranches configurées. On forme ensuite une pile de tranches configurées en faisant tourner chaque tranche successive par rapport à la tranche suivante-précédente, puis par mise en place de la tranche successive sur la pile. Cet empilage permet d'obtenir une pile de tranches configurées ayant une périodicité à quatre couches présentant une bande interdite photonique.</p> |
