| 主权项 |
1.一种制备于清洁剂配方中安定的经涂覆之碳酸钠过水合物的方法,其特征在于:(a)以下列步骤制备碳酸钠过水合物:(i)将一含有重量比50到过氧化氢的过氧化氢水溶液及一有效量之-羟亚乙基-1,1-二膦酸(其乃提供(a)(iii)步骤中重量百分浓度0.5至者均匀地分布到一实质上为乾燥的颗粒状反应混合物上,此反应混合物起初主要含有孔洞体积至少为0.29毫升/克之无水碳酸钠,(ii)用水的蒸发热以顺流方式平衡反应混合物中碳酸钠之水合热与过水合热,并且添加充分显热,以将反应混合物维持在50℃至80℃之间,同时以蒸发在添加时为过氧化氢水溶液之水分,来维持反应混合物实质上的乾燥,以及(iii)提取至少一部份的反应混合物作为颗粒状之碳酸钠过水合物,其含有约12到约14之活性氧,和大约到之-羟亚乙基-,-二膦酸者,以及(b)将由(a)(iii)步骤中提取的碳酸钠过水合物粒子,以下述步骤涂覆:(i)将碳酸钠过水合物粒子悬浮于一气流中,从而实质上排除了粒子间固体-固体间之接触,(ii)将悬浮之粒子以多量的硼矽酸钠水溶液之微小液滴接触之,此硼矽酸钠主要是包含重量比25到75份之矽酸钠与重量比75到25份之偏硼酸钠,而提供SiOC_2C与BC_2COC_3C之重量比率为1:1到2:1之一种混合物,以及(iii)同时大体上蒸发以硼矽酸盐水溶液形式被加入之所有水分,是以能避免将悬浮粒子湿润化或水合化之足量速率为之,从而提供一种经涂覆之碳酸钠过水合物,其包含有重量比自3至之涂覆物,经涂覆的粒子具有自至仟克/米之体密度,并含有重量比自10.5至的活性氧,此经涂覆的粒子能在两分钟内将大体上所有的活性氧释放在水中。2.如申请专利范围第1项之方法,其特征在于(a)(iii)步骤中被提取的反应混合物含有重量比自0.5至之-羟亚乙基-,-二膦酸。3.如申请专利范围第1项之方法,其特征在于硼矽酸钠溶液主要包含重量比40至60份矽酸钠和重量比60至40份偏硼酸钠的一种混合物。4.如申请专利范围第2项之方法,其特征在于硼矽酸钠溶液主要包含重量比40至60份矽酸钠和重量比60至40份偏硼酸钠的一种混合物。5.如申请专利范围第1项之方法,其特征在于硼矽酸钠溶液含有重量比25之硼矽酸钠固体。6.如申请专利范围第2项之方法,其特征在于硼矽酸钠溶液含有重量比25之被溶解的硼矽酸钠固体。7.如申请专利范围第3项之方法,其特征在于硼矽酸钠溶液含有重量比25之被溶解的硼矽酸钠固体。8.如申请专利范围第4项之方法,其特征在于硼矽酸钠溶液含有重量比25之被溶解的硼矽酸钠固体。9.如申请专利范围第1项之方法,其特征在于硼矽酸钠溶液中的硼矽酸钠主要含有重量比50份的矽酸钠,其为具有3:1之SiOC_2C对NaC_2CO的比率者,和重量比50份的偏硼酸钠。10.如申请专利范围第2项之方法,其特征在于硼矽酸钠溶液中的硼矽酸钠主要含有重量比50份的矽酸钠,其为具有3:1之SiOC_2C对NaC_2CO的比率者,和重量比50份的偏硼酸钠。11.如申请专利范围第5项之方法,其特征在于硼矽酸钠溶液中的硼矽酸钠主要含有重量比50份的矽酸钠,其为具有3:1之SiOC_2C对NaC_2CO的比率者,和重量比50份的偏硼酸钠。12.如申请专利范围第6项之方法,其特征在于硼矽酸钠溶液中的硼矽酸钠主要含有重量比50份的矽酸钠,其为具有3:1之SiOC_2C对NaC_2CO的比率者,和重量比50份的偏硼酸钠。13.如申请专利范围第1项之方法,其特征在于经涂覆的粒子体密度为自900至1050仟克/米C^3C。14.如申请专利范围第2项之方法,其特征在于经涂覆的粒子体密度为自900至1050仟克/米C^3C。15.如申请专利范围第9项之方法,其特征在于经涂覆的 |
