首页
产品
黄页
商标
征信
会员服务
注册
登录
全部
|
企业名
|
法人/股东/高管
|
品牌/产品
|
地址
|
经营范围
发明名称
METHOD FOR ETCHING SEMICONDUCTOR BY USING NEGATIVE ION PLASMA
摘要
申请公布号
KR1019950006979(B1)
申请公布日期
1995.06.26
申请号
KR1019920010190
申请日期
1992.06.12
申请人
发明人
分类号
主分类号
代理机构
代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
一种便携式盲用书写与标记装置
一种用于控制LED屏背光亮度的电路
LED显示屏控制系统和发送卡
一种硅胶防鸟帽
一种楼宇安全出入控制系统
爆炸焊设备线夹
汽车防撞梁碰撞实验测控设备
一种物流全程实时监控系统
一种旅游物联网系统与装置
光学式指纹成像系统
一种用于对室内设施进行控制的平板系统
机构原理智能可视化平台
盾构机用的耐用型电缆结构
汽车电池极群组自动脱模架
耐张线夹绝缘护套
电站现场±800kV换流变的汽相干燥系统
笔记本电脑触摸板
带液晶显示触摸屏的采集器
一种新型温控器
一种监理员随身佩戴装置