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发明名称 Verfahren zur Bildung eines Metalldrahtes für eine Halbleitervorrichtung
摘要
申请公布号 DE19505077(A1) 申请公布日期 1995.10.12
申请号 DE1995105077 申请日期 1995.02.15
申请人 HYUNDAI ELECTRONICS INDUSTRIES CO., LTD., ICHON, KYOUNGKI, KR 发明人 CHOI, YANG KYU, SEOUL/SOUL, KR
分类号 H01L21/3213;H01L21/306;H01L21/3205;H01L21/768;H01L23/528;(IPC1-7):H01L21/768;H01L21/311;H01L21/321 主分类号 H01L21/3213
代理机构 代理人
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