发明名称 抗真菌剂及其制备方法和中间体
摘要 以上通式所示的化合物或其盐,其中间体或中间体的盐,以及其制备方法和适于作为抗真菌剂的药物组合物:其中R<SUP>1</SUP>和R<SUP>2</SUP>表示卤原子或氢原了;R<SUP>3</SUP>表示氢原子或低级烷基;1、r和m为0或1;A为N或CH;W表示芳香环或其稠环;X表示另一个芳香环、链烷二基、链烯二基或链炔二基;Y为-S-等;Z表示氢原子等。
申请公布号 CN1113241A 申请公布日期 1995.12.13
申请号 CN95103267.4 申请日期 1995.02.06
申请人 卫材株式会社 发明人 内藤俊彦;畑桂;加来由美子;鹤冈明彦;塚田格;柳泽学;丰泽逸生;奈良一诚
分类号 C07D417/06;C07D417/14;C07D249/08;C07D403/10;C07D409/06;C07D409/14;C07D413/06;C07D513/04;//C07D417/06,249:08,277:30) 主分类号 C07D417/06
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 王其灏
主权项 1、下列通式所示化合物或其盐:<img file="951032674_IMG2.GIF" wi="1044" he="506" />其中R<sup>1</sup>和R<sup>2</sup>彼此相同或不同且各自表示一个卤原子或氢原子;R<sup>3</sup>为一个氢原子或低级烷基;1、r和m可相同或不同且各自表示0或1;A为N或CH;W表示可具有一个或多个杂原子和可具有一个或多个取代基的芳香环或其稠环,或者W表示一个芳香环或其稠环,其中可具有一个或多个杂原子和可具有一个或多个取代基的芳香环或其稠环的部分或全部被饱和;X表示可具有一个或多个取代基和可包含一个或多个选自N、S和O的杂原子的芳香环,可具有一个或多个取代基的链烷二基,可具有一个或多个取代基的链烯二基,或可具有一个或多个取代基的链炔二基;Y为由-S-、>SO、>SO<sub>2</sub>、>C=S、>C=O、-O-、>N-R<sup>6</sup>、>C=N-OR<sup>6</sup>或-(CH<sub>2</sub>)<sub>j</sub>-表示的基团,其中R<sub>6</sub>为氢原子或低级烷基,表j为1-4的整数,并且Z代表氢原子、卤原子、低级烷基、卤代低级烷基、低级烷氧基、卤代低级烷氧基、羟基、硫羟基、硝基、氰基、低级链烷酰基、可具有一个或多个取代基的苯基、可具有一个或多个取代基的苯氧基、可具有一个或多个取代基的咪唑基、可具有一个或多个取代基的三唑基、可具有一个或多个取代基的四唑基或可具有一个或多个取代基的氨基,除非当1=1且r=m=0时,W为噻唑环、R<sup>3</sup>为甲基、且Z为氢原子。
地址 日本东京