| 主权项 |
1. 一种催化部份氧化烃原料之方法,其包括将氧对碳比例在0.45至0.75范围内之含有甲烷、天然气、相关气体或轻烃之来源作为烃原料、含氧气体及视需要使用之蒸汽之进料,于2至75巴之压力下,与在绝热条件及具有进料空间速率为从20,000至50,000,000Nl/升/小时之反应区内的催化剂接触,其中催化剂包含选自负载于载体上之钌、铑、钯、锇、铱及铂,且该催化剂系以具高曲折度之固定排列维持于反应区之内,及具有1.1至10.0之高曲折度。2. 根据申请专利范围第1项之方法,其特征在该含氧气体为纯氧。3. 根据申请专利范围第1项之方法,其特征在该进料包含氧对碳比例在0.45至0.65范围之烃原料及含氧气体。4. 根据申请专利范围第3项之方法,其中氧对碳比例为0.5。5. 根据申请专利范围第1项之方法,其特征在该进料包含蒸汽。6. 根据申请专利范围第5项之方法,其中蒸气对碳比例为高于0.0至3.0。7. 根据申请专利范围第6项之方法,其中蒸气对碳比例为高于0.3至2.0。8. 根据申请专利范围第1至7项中任一项之方法,其特征在该催化剂包含选自铂,钯,铑及钌之金属。9. 根据申请专利范围第1至7项中任一项之方法,其特征在该催化剂之固定排列系为选自颗粒催化剂之固定床、金属网及陶瓷泡沫之形式。10. 根据申请专利范围第9项之方法,其中催化剂之固定排列系颗粒催化剂之固定床或陶瓷泡沫之形式。11. 根据申请专利范围第10项之方法,其特征在该催化剂系呈每英寸具有30至150个孔之陶瓷泡沫形式。12.根据申请专利范围第1至7项中任一项之方法,其特征在该固定排列之曲折度范围为1.1至5.0。13. 根据申请专利范围第12项之方法,其中固定排列之曲折度为1.3至4.0。14. 根据申请专利范围第1至7项中任一项之方法,其特征在该进料之空间速率范围为从50,000至10,000,000Nl/升/小时。15. 根据申请专利范围第1至7项中任一项之方法,其特征在该进料与催化剂系于750℃至1200℃之温度范围接触。16. .根据申请专利范围第15项之方法,其中进料于1000 |
