| 摘要 |
본 발명은 내부에 공간이 형성되는 튜브, 상기 튜브 내부에서 복수의 기판을 다단으로 적재하고 상기 복수의 기판이 각각 처리되는 복수의 처리공간을 개별적으로 형성하는 기판 지지부, 모든 상기 복수의 처리공간에 제1 가스를 공급하는 제1 가스공급부, 상기 복수의 기판 각각에 제2 가스를 개별적으로 공급하도록 상기 복수의 처리공간 각각에 대응되게 배치되는 복수의 분사기를 구비하는 제2 가스공급부, 및 상기 튜브 내 가스를 배기하는 배기부를 포함하여, 복수의 기판 각각이 처리되는 공간마다 개별적으로 가스를 공급할 수 있다. |
