发明名称 EXPOSURE APPARATUS EXPOSURE METHOD DEVICE PRODUCING METHOD AND OPTICAL COMPONENT
摘要 노광 장치 (EX) 는 투영 광학계 (PL) 와 액체 (1) 를 통해 기판 (P) 상에 노광광 (EL) 을 조사하여 기판 (P) 을 노광하는 것으로서, 기판 (P) 을 유지하기 위한 기판 테이블 (PT) 을 구비하고, 기판 테이블 (PT) 에 발액성의 평탄면 (30A) 을 갖는 플레이트 부재 (30) 를 교환 가능하게 형성하여 액체가 잔류하는 것을 방지하고, 양호한 노광 정밀도를 유지할 수 있다.
申请公布号 KR101682884(B1) 申请公布日期 2016.12.06
申请号 KR20147032572 申请日期 2004.12.03
申请人 가부시키가이샤 니콘 发明人 나가사카 히로유키;다카이와 히로아키;히루카와 시게루;호시카 류이치;이시자와 히토시
分类号 H01L21/027;G03F7/20 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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