Im fernen UV-empfindlicher Photolack, widerstandsfähig gegen den Zerfall des latenten Bildes,申请号DE19946000344-传众专利搜索

发明名称	Im fernen UV-empfindlicher Photolack, widerstandsfähig gegen den Zerfall des latenten Bildes
摘要
申请公布号	DE69400344(D1)	申请公布日期	1996.09.05
申请号	DE19946000344	申请日期	1994.01.06
申请人	HOECHST CELANESE CORP., SOMERVILLE, N.J., US	发明人	LAZARUS, RICHARD M., MISSION VIEJO CA 92692, US;KOES, THOMAS ALLAN, RIVERSIDE CA 92503, US
分类号	G03F7/004;G03F7/022;G03F7/039;H01L21/027;H01L21/30;(IPC1-7):G03F7/022;C07C205/19	主分类号	G03F7/004
代理机构		代理人
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