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1. 一种铑之回收方法,铑系含在氧化合成生成物的蒸馏残渣中,必要时与配合基结合成错合物,利用氧或含氧气体,按每莫耳铑和便利起见每莫耳配合基有100至2000莫耳氧,在60—120℃于常压或加压1.0MPa以下,在C@ss2-C@ss5单羧酸以及C@ss2-C@ss5单羧酸硷金属 存在下,处理残渣,随即萃取存在的铑呈水溶性化合物,包括以含有可与铑形成配价键的氮或磷原子的化学剂水溶液萃取残渣,便利时本身先用水加以萃取者。2. 如申请专利范围第1项之方法,其中以错合剂溶液萃取,是在温度20—120℃和压力1.0MPa以下进行者。3. 如申请专利范围第1项之方法,其中萃取是用水在温度20—120℃和压力1.0MPa以下进行者。4. 如申请专利范围第1项之方法,其中萃取是用水和/或错合剂溶液,分若干阶段进行者。5. 如申请专利范围第1项之方法,其中错合剂为亚氨基乙酸、氮基三乙酸、乙二胺四乙酸、三苯膦三磺酸酯或三苯膦二磺酸酯者。6. 如申请专利范围第1项之方法,其中每莫耳铑使用至少5莫耳单配位基或5/n莫耳n配位基,最好是20—40莫耳单配位基或20/n—40/n莫耳n配位基,做为错合剂者。7.如申请专利范围第1项之方法,其中错合剂溶液含错合剂,对溶液而言,在 |
