| 主权项 |
1.一种减少喷布施用透明水媒组成物中之微泡量的方法包括:形成透明水媒组成物,该透明水媒组成物包括带有至少一个第一反应基之乳液聚合加成聚合物(其中,该聚合物包括以该乳液加成聚合物之重量计为0.1%至20%重量之带有该第1反应基的共聚合之乙烯基化不饱和单体),及带有一个第二反应基及至少一个水溶性基之反应调节剂,其中该第二反应基系可与该第一反应基反应而形成离子键或共价键者,该第二反应基之当量数对该第一反应基之当量数之比値为0.01-0.3;使用喷布方法将该组成物涂覆基材上;以及乾燥该组成物。2.如申请专利范围第1项之方法,其中该第二反应基之当量数对该第一反应基之当量数的比値为0.05-0.15。3.如申请专利范围第1项之方法,其中该乳液聚合加成聚合物包括多阶段乳液聚合加成聚合物颗粒,该颗粒具有内相及外相。4.如申请专利范围第1项之方法,其中该第一反应基为羧酸基及该第二反应基为聚烷氧基化之三级胺。5.如申请专利范围第1项之方法,其中该第一反应基为羧酸基,及该第二反应基为碳二醯亚胺(carbodiimide)基。6.如申请专利范围第1项之方法,其中该碳二醯亚胺((carbodiimide)为下式:E - 0 - { - Z - 0 } m - G - C (0) N (A) - R - N =C = N - R' - N (A) C(0) - G - { 0 - Z' - } p - 0 -E'式中m为1至30之整数;p为1至30之整数;A为氢;E及E'为C@ss1@ss-@ss4烷基,且其可为相同或不同;G为键;R及R'为经C@ss1@ss-@ss6烷基取代之伸苯基;及Z与Z'为C@ss1@ss-@ss6伸烷基,且其可为相同或不同。7.如申请专利范围第6项之碳二醯亚胺,其中A为氢;E及E'为甲基;R及R'为伸甲苯基;及Z及Z'系选自由伸乙基、伸丙基,或其混合物组成之组群者。8.如申请专利范围第1项之方法,系使用于将由申请专利范围第1项之方法形成之透明水媒组成物喷布施用于基材上,以减少该透明水媒组成物中之微泡量。9.如申请专利范围第1项之方法,其中该第1及第2反应基系选自下列组合之反应基对者:酸+胺;羧酸 四级铵;乙醯乙酸 +醛;乙醯乙酸 +胺;胺+醛胺+酐;胺+异氰酸 ;胺+环氧;醛+ ;酸+环氧;酸+碳二醯亚胺;酸+氯甲酯;酸+氯甲醯胺;酸+酐;酸+ 丙烷; |
