| 摘要 |
본 발명은 TFT 어레이기판 및 그 제조방법을 제공한다. 상기 제조방법은 투광성 기판위에 게이트를 형성하고, 상기 게이트의 상방에 상기 게이트와 상기 투광성 기판을 커버하는 제1절연층을 형성하는 절차와, 상기 제1절연층의 상방에 패터닝된 IGZO층을 형성하는 절차와, 상기 IGZO층에 대하여 처리를 진행하여, 소스와 드레인을 형성하는 절차와, 처리된 상기 IGZO층의 상방에 제2절연층을 형성하여, 상기 IGZO층을 절연보호하고, 상기 제2절연층에 상기 소스/드레인에 연통하는 접촉홀을 형성하고, 상기 접촉홀에 전극을 침적하는 절차를 포함한다. 본 발명에서는 제2금속층을 형성할 필요가 없으므로, 제2금속층을 형성하기 위해 수행하는 포토리소그래피 공정을 생략하고, 공정 과정을 줄이며, 동작의 효율을 향상시키고 또한 TFT의 사이즈를 감소할 수 있다. |
