发明名称 在其表面上具有窗型及框型涂膜的基体之制法(二)
摘要 一种制造基体之方法,该基体之表面上具有导电电路,在电路上面具有窗型彩色涂膜,而在非窗型涂膜所占区域则具有框型光屏涂膜,其制造步骤如下:(a) 在表面具有导电电路之透明基体上形成光屏涂膜,(b) 在步骤(a) 中形成之涂膜表面上叠放预定图案之光罩,然后对已叠好光罩之涂膜曝光,(c) 对中间产物进行显像而留下框型光屏涂膜,(d) 对步骤(a)~(c)中形成的基体进行电沉积程序而在导电电路上面形成电沉积彩色涂膜。所制成之涂膜具有精密度已获得改良之精细图案。
申请公布号 TW318260 申请公布日期 1997.10.21
申请号 TW083106791 申请日期 1994.07.25
申请人 住友化学工业股份有限公司 发明人 中野强;手岛康彦;冈田良克;松村美纪;宫崎进
分类号 H01L21/27 主分类号 H01L21/27
代理机构 代理人 何金涂 台北巿大安区敦化南路二段七十七号八楼
主权项 1.一种制造基体之方法,该基体之表面上具有复数条分离之导电电路,在导电电路上面具有窗形彩色涂膜,而在非窗形涂膜所占区域则具有一框形光屏涂膜,其制造步骤如下:(a)将含有产生光屏性质材料之一负光阻或正光阻组成物涂布在表面具有该导电电路之透明基体上,将该基体有导电电路之表面盖住,然后形成光屏涂膜;(b)在步骤(a)所形成之涂膜表面上叠放已设计好图案之光罩,使得涂膜在下一步骤(c)中能盖住框形部分,但不会盖住窗形部分,然后对已叠有光罩之涂膜曝光;(c)对在步骤(a)和步骤(b)所形成之基体进行显像,留下框形光屏涂膜,并除去非框形光屏涂膜部分之其余涂膜;以及(d)以基体上面的导电电路做为电极,对步骤(a),(b)和(c)所形成的基体依序进行电沉积程序且各导电电路之窗形部分系分别电沉积以形成不同色彩之涂膜。2.如申请专利范围第1项之方法,其中该导电电路系以锡掺杂氧化铟或锑掺杂氧化锡制成。3.如申请专利范围第1项之方法,其中该负光阻或正光阻组成物含有一黑色颜料。4.如申请专利范围第1项之方法,其中步骤(a)中涂膜之形成程序系在60-100℃之温度下进行热处理之程序。5.如申请专利范围第1项之方法,其中步骤(b)中之曝光程序系使用紫外线以10-500mJ/cm2之曝光量进行之程序。6.如申请专利范围第1项之方法,其中步骤(c)中之显像程序系使用从苛性钠之硷性水溶液,碳酸钠,四级铵盐,有机胺,以及有机溶剂中选出之显像剂进行之程序。7.如申请专利范围第1项之方法,其中电沉积程序系在由施加10-300V之直流电压下进行1秒钟-3分钟之程序。8.如申请专利范围第1项之方法,其中该电沉积涂膜分别使用红色、绿色和蓝色颜料着色,且该光屏涂膜具有作为滤色板之黑色基体之功能。9.如申请专利范围第1项之方法所形成之基体。10.一种制造液晶显示器用滤色板之方法,包括使用如申请专利范围第1项之方法所制得之基体。图示简单说明:第一图所示为根据本发明方法在各个步骤中所形成的产物之横断面示意图。第二图为导电电路,框型光屏涂膜和窗型彩色涂膜图案例子之个别平视图。
地址 日本