| 摘要 |
Die Erfindung betrifft eine Reinigungsvorrichtung (1, 1‘) mit einer für die Halterung an einem Masken-Halter (RH) einer Belichtungsmaske (M) oder für die Halterung an einem Wafer-Halter (WH) eines Wafers (W) eines EUV-Lithographiesystems (101) angepassten Geometrie, umfassend: eine Bereitstellungseinrichtung (3) zur Bereitstellung von elektrischer Energie, sowie mindestens eine Reinigungseinheit (4, 5, 6a, b, 7a, b) zum insbesondere berührungslosen Einwirken auf Partikel in der Umgebung der Reinigungsvorrichtung (1, 1‘), wobei die Reinigungseinheit (4, 5, 6a, b, 7a, b) mit der Bereitstellungseinrichtung (3) zur Abnahme von elektrischer Energie in Verbindung steht. Die Erfindung betrifft auch ein EUV-Lithographiesystem mit einer Reinigungsvorrichtung (1, 1‘), die wie oben beschrieben ausgebildet ist, sowie ein Verfahren zum Reinigen eines EUV-Lithographiesystems. |
