| 主权项 |
1.一种适于清洁隐形眼镜之处理装置,包含有:一本体;一容置部设置于该身部上,用以将隐形眼镜定位地容置于其中;一用以产生预定强度频率超音波之发生器,设于该本体上,并将所产生之音波能量传递至该容置部中;一用以产生预定量臭氧之发生器,具有一臭氧输出端;一臭氧输送管体,系以一端与该臭氧输出端接合,另端则伸入该容置部中,藉以将臭氧送入该容置部内;藉此,即得将待清洁之隐形眼镜置入该容置部中,并注入用以保持该隐形眼镜湿润之液体将该隐形眼镜予以淹没,再以该超音波发生器对该等液体作用,以及将该臭氧发生器所产生之臭氧导入该液体之中,藉以完隐形眼镜之清洁杀菌作业。2.依据申请专利范围第1项所述之适于清洁隐形眼镜之处理装置,其中,该容置部系包含有一开口朝上之透空容槽,系自该身部顶侧端面往下延伸而成,一固定件,桥设于该容槽之开口端上,一容器,设于该固定件上底端并伸入该容槽内部一预定之深度。3.依据申请专利范围第2项所述之适于清洁隐形眼镜之处理装置,其中,该臭氧输送管体之另端系贯穿该容器之一侧器壁以伸入该容器内部。4.依据申请专利范围第2或3项所述之适于清洁隐形眼镜之处理装置,其中,该容器系具有一顶端透空之筒体,一盖体盖设于该筒体之顶端开口上,一穿孔系贯穿该盖体之两侧端面用以连通其内外并供该臭氧输送管体穿置于其中。5.依据申请专利范围第2项所述之适于清洁隐形眼镜之处理装置,其中,该固定件为一矩形板体,并以长轴两端桥接于该容槽之开口端上。6.依据申请专利范围第5项所述之适于清洁隐形眼镜之处理装置,其中,该容置部包含有一置物篮体,系对应嵌置于该容槽中。7.依据申请专利范围第5项所述之适于清洁隐形眼镜之处理装置,其中,该固定件设有一贯穿其两侧板面之贯孔,用以容置该容器于其中。8.依据申请专利范围第1项所述之适于清洁隐形眼镜之处理装置,其中,该臭氧输送管体系以矽质材料所制成者。图示简单说明:第一图为本创作一较佳实施例之俯视图。第二图为本创作一较佳实施例沿第一图2-2方向之剖视图。第三图为本创作一较佳实施例沿第一图3-3方向之剖视图。 |
