沉淀矽石的制造方法

摘要

沉淀之矽石其ＢＥＴ表面积为１０－１３０㎡／ｇ，ＣＴＡＢ表面积为１０－７０㎡／ｇ，平均粒子直径为５－２０μｍ，在１０％甘油分散液中之Ｃｕ磨耗值为４－５０ｍｇ且在ＣＭＣ溶液（２０％分散液）中之增稠行为为３００－３５００ｍｐａｓ，是将硷金属矽酸（重量模数ＳｉＯ2 ：硷金属氧化物＝２. ５－３. ９：１）及一矿物酸同时加至一已用水玻璃调整ｐＨ值为７. ０至９. ９或１０. ０至１０. ７之开始量之水中，在添加期间ｐＨ值保持在７. ０与９. ９或１０. ０与１０. ７之间不变，其中开始沉淀温度为５０－９０℃，黏度之增加在沉淀过程至多２５％后发生，将ｐＨ值调整至≦６（以３. ５为较佳），一旦矽石含量大于１２０ｇ／ｌ或大于１５０ｇ／ｌ（较佳为≧１６０ｇ／ｌ至２４０ｇ／ｌ）时，将固体过滤分离，清洗，乾燥及研磨。沉淀之矽石可被作为牙膏中之磨耗及／或增稠成份。

主权项

1.一种制造沉淀矽石的方法,此沉淀矽石之BET表面积为10-130㎡/g,CTAB表面积为10-70㎡/g,平均粒子直径为5-20m,在10%甘油分散液中之Cu磨耗値为4-50mg且在CMC溶液(20%分散液)中之增稠行为是300-3500mPa.s,该方法之特征为将硷金属矽酸 (重量模数SiO2:硷金属氧化物=2.5-3.9:1)及一矿物酸同时加入一已用水玻璃调整pH値为7.0至9.9或10.0至10.7之开始量之水中,在添加期间之pH値被保持在7.0至9.9或10.0至10.7之间不变,其中开始沉淀温度为50-90℃,在至多25%沈淀期间时,将pH値调整至≦6,若初始沉淀pH値为7.0至9.9,而沉淀后矽石含量大于120g/ell时,或若初始沉淀pH値为10.0至10.7,而矽石含量大于150g/ell时,则将固体过滤分离,清洗,乾燥和研磨以形成一滤饼或流化滤饼。2.如申请专利范围第1项之方法,其中使用箱压式滤机(chamber presses)或膜滤压机(membranefilter presses)来过滤。3.如申请专利范围第1项之方法,其中用循环空气乾燥机,Buttner乾燥机,流动乾燥机或类似的乾燥机来乾燥。4.如申请专利范围第1项之方法,其中流化滤饼是在一喷洒乾燥机中被乾燥的。5.如申请专利范围第1项之方法,其中滤饼被研磨乾燥。6.如申请专利范围第1项之方法,其中pH値系调整至3.5,及当初始沉淀pH値为10.0至10.7而沉淀后矽石含量为160g/ell至240g/ell时,过滤分离出固体,并清洗,乾燥和研磨之。图示简单说明:第一图至第五图分别为例1至例5悬浮液在沈淀期间之粘度曲线。