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1.一种光敏性树脂组成物之图案加工的方法,其包含将含有下式(1)所示之聚醯胺和二重氮化合物之正型光敏性树脂组成物涂覆于一基质上:其中X是一四价芳族基团,而由下列结构式之一所表示:其中A表示-CH2-,-O-,-S-,-SO2-,-CO-,-NHCO-或-C(CF3)2-;Y是一二价芳族基团,而由下列结构式之一所表示:其中A表示-O-,-S-,-SO2,-CO-,-NHCO-或-C(CF3)2-;Z是其中R1和R2是二价C1-C7烷基及R3和R4是单价C1-C4烷基或苯基;a和b表示莫耳分数;a+b=100%;a=60.0-100莫耳%;b=0-40.0莫耳%及n=2-500,令其进行预烘培,而后以光照射之,接着将曝光部位溶于一含阴离子表面活性剂之硷性水溶液中以除去曝光部位,如此而得一图案,其中,硷性水溶液中阴离子表面活性剂的量是占硷性水溶液总重的0.1-10重量%。2.如申请专利范围第1项之图案加工的方法,其中阴离子表面活性剂是烷基苯磺酸或磺酸。3.如申请专利范围第2项之图案加工的方法,其中阴离子表面活性剂是烷基苯磺酸。4.如申请专利范围第3项之图案加工的方法,其中烷基苯磺酸是十二烷基苯磺酸。5.如申请专利范围第1项之图案加工的方法,其中硷性水溶液是氢氧化钠,氢氧化钾,碳酸钠,矽酸钠,偏矽酸钠,氨水,乙胺,正丙胺,二乙胺,二正丙胺,三乙胺,甲基二乙基胺,二甲基乙醇胺,三乙醇胺或氢氧化四甲铵之水溶液。6.如申请专利范围第5项之图案加工的方法,其中硷性水溶液是氢氧化四甲铵之水溶液。7.如申请专利范围第1项之图案加工的方法,其中二重氮化合物是下列结构式之一所示之化合物:其中Q是氢原子,及至少一个在上述化合物中之Q是8.如申请专利范围第1项之图案加工的方法,其中聚醯胺具下列结构式中之一者:和9.如申请专利范围第1项之图案加工的方法,其中二重氮化合物具下列结构式之一者:及 |
