| 发明名称 |
PHYSICAL VAPOR DEPOSITION DUAL COATING PROCESS AND APPARATUS |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
KR0157302(B1) |
申请公布日期 |
1998.11.16 |
| 申请号 |
KR19890012066 |
申请日期 |
1989.08.24 |
| 申请人 |
HAUZER IND. B.V. |
发明人 |
RANDHAWA, HARBHAJAN S.;BUSKE, JEFFERY M. |
| 分类号 |
C23C14/32;C23C14/35;C23C14/50;(IPC1-7):C23C14/24 |
主分类号 |
C23C14/32 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
