发明名称 乾燥装置及基板之表面处理方法
摘要 【目的】抑制处理对象物的乾燥不良。【解决方法】供给氮气于喷嘴34时,可产生通过喷出孔35而喷出的氮气喷出流体36。喷出流体36为膜状,沿着处理槽11侧壁的内侧表面上昇,然后,通过设置于处理槽11上部的吸气口33,而回收于外部。处理槽11侧壁的内侧表面被喷出流体36覆盖,所以可抑制IPA蒸气在其内侧表面不必要的冷凝。其结果使IPA蒸气有效地冷凝于承载在接受皿6上的处理对象物表面,所以可抑制处理对象物的乾燥不良。
申请公布号 TW348281 申请公布日期 1998.12.21
申请号 TW086115816 申请日期 1997.10.24
申请人 三菱电机股份有限公司;菱电半导体系统工程股份有限公司 发明人 小西瞳子;伴功二;松本晓典;黑田健;横井直树
分类号 H01L21/304 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人 洪澄文 台北巿信义路四段二七九号三楼
主权项 1.一种乾燥装置,可贮存并加热水溶性溶媒液<7>,且藉由将上述溶媒液产生的蒸气<5>冷拟于处理对象物<3,4>表面,以乾燥该处理对象物的表面,其包括:一处理槽<11>,其在上部设定一可供处理对象物出入而开口向上之开口部<22>,且其底部可贮存上述溶媒液,并在该贮存的溶媒液上方可容纳上述处理对象物;一加热器<10>,用以将贮存于上述处理槽底部的溶媒液加热;扩散防止装置<13,14,15>,用以防止上述蒸气通过上述开口部,而从上述处理槽内部扩散至外部;以及喷嘴<34,41>,其可接受气体供给,而使该流体产生沿着处理槽11侧壁的内侧表面,并覆盖该内侧表面之流体;上述处理槽的侧壁更设定一吸气口<33>,用以回收沿着上述内侧表面流动后的气体。2.如申请专利范围第1项所述之乾燥装置,其中上述喷嘴<34>系设置于上述侧壁的下部,且上述吸气口被设定于上述侧壁的上部,用以使上述气体沿着上述内侧表面从下部往上部并覆盖该内侧表面流动之后,可被上述吸气口回收。3.如申请专利范围第1项所述之乾燥装置,其中上述喷嘴<41>系设置于上述侧壁的下部,且上述吸气口被设定于上述侧壁的上部,用以使上述气体沿着上述内侧表面从上部往下部并覆盖该内侧表面流动之后,可通过容纳处理对象物的部位而被上述吸气口回收。4.如申请专利范围第1.2或3项所述之乾燥装置,更包括一吸引装置<50>,以及一混合气体产生装置<51>,上述吸引装置被设置于上述吸气口与上述混合气体产生装置之间,且通过上述吸气口吸引上述处理槽的内部,上述混合气体产生装置被设置于上述吸引装置与上述喷嘴之间,且可将非反应性气体与上述蒸气的混合气体当作上述气体,而供给于上述喷嘴,并且可提高利用上述吸引装置所吸引的上述混合气体之中的蒸气浓度,而供给于上述喷嘴。5.如申请专利范围第4项所述之乾燥装置,其中更包括:一混合气体管件<52>,其被设置于上述混合气体产生装置及上述喷嘴之间,用以移送上述混合气体;一第2加热器<53>,将上述加热器视为第1加热器,其安装于上述混合气体管件,用以将藉由上述混合气体管件移送的混合气体加热。6.如申请专利范围第5项所述之乾燥装置,其中上述混合气体产生装置包括:一混合槽<54>,用以贮存上述溶媒液;以及一第3加热器<60>,其藉由将贮存于上述混合槽的溶媒液加热,而产生上述溶媒液的蒸气,上述混合槽藉由将贮存于该混合槽溶媒液所产生的蒸气混入利用上述吸引装置所吸引的混合气体之中,而提高该混合气体之中上述蒸气的浓度,上述乾燥装置更包括:一浓度感测器<71>,用以检测出通过上述吸气口的混合气体之中的上述蒸气浓度;以及一控制装置<70,75>,用以控制上述第1-第3加热器的输出,而消除上述浓度感测器所检测出的浓度与目标値之间的偏差。7.如申请专利范围第6项所述之乾燥装置,其中该控制装置不但控制上述第1-第3加热器的输出,也控制上述吸引装置的吸引输出,而消除上述浓度感测器所检测出的浓度与目标値之间的偏差。8.如申请专利范围第2项所述之乾燥装置,更包括一整流构件<95>,其安装于上述侧壁,用以变换上述气体沿者上述内侧表面,并覆盖该内侧表面从下部往上部流动之后的流向,而向容纳上述处理对象物的部位流动。9.一种乾燥装置,可贮存并加热水溶性溶媒液<7>,且藉由将上述溶媒液产生的蒸气<5>冷拟于处理对象物<3,4>表面,以乾燥该处理对象物的表面,其包括:一处理槽<11>,其在上部设定一可供处理对象物出入而开口向上之开口部<22>,且其底部可贮存上述溶媒液,且在该贮存的溶媒液上方可容纳上述处理对象物;一加热器<10>,用以将贮存于上述处理槽底部的溶媒液加热;扩散防止装置<13,14,15>,用以防止上述蒸气通过上述开口部,而从上述处理槽内部扩散至外部;喷嘴<61>,其可接受气体供给,再藉由喷出上述气体至贮存于上述处理槽内的溶媒液之中,使上述溶媒液产生气泡;以及上述处理槽的侧壁更设定一吸气口<33>,用以回收产生气泡后的上述气体。10.如申请专利范围第9项所述之乾燥装置,其中更包括一个喷嘴<34,41>,可接受气体供给,而使上述气体产生沿着上述处理槽的侧壁的内侧表面,并覆盖该内侧表面流动的流体。11.一种乾燥装置,可贮存并加热水溶性溶媒液<7>,且藉由将上述溶媒液产生的蒸气<5>冷凝于处理对象物<3,4>表面,以乾燥该处理对象物的表面,其包括:一处理槽<11>,其在上部设定一可供处理对象物出入而开口向上之开口部<22>,且其底部可贮存上述溶媒液,且在该贮存的溶媒液上方可容纳上述处理对象物;一加热<10>,用以将贮存于上述处理槽底部的溶媒液加热;扩散防止装置<13,14,15>,用以防止上述蒸气通过上述开口部,而从上述处理槽内部扩散至外部;接受皿<82,86,90,93>,其位于上述处理槽内容纳上述处理对象物的正下方,并且设置于上述贮存的溶媒液之液面上方的位置;以及一管件<20>,其与上述接受皿的底部连结,用以将流入上述接受皿的液体,排出该乾燥装置的外部,上述接受皿系以气体可透过性且液体不可透过性的材料构成。12.一种乾燥装置,可贮存并加热水溶性溶媒液<7>,且藉由将上述溶媒液产生的蒸气<5>冷凝于处理对象物<3,4>表面,以乾燥该处理对象物的表面,其包括:一处理槽<11>,其在上部设定一可供处理对象物出入而开口向上之开口部<22>,且其底部可贮存上述溶媒液,且在该贮存的溶媒液上方可容纳上述处理对象物;一加热器<10>,用以将贮存于上述处理槽底部的溶媒液加热;扩散防止装置<13,14,15>,用以防止上述蒸气通过上述开口部,而从上述处理槽内部扩散至外部;接受皿<86,90,93>,其位于上述处理槽内容纳上述处理对象物的正下方,并且设置于上述贮存的溶媒液之液面上方的位置;以及一管件<20>,其与上述接受皿的底部连结,用以将流入上述接受皿的液体,排出该乾燥装置的外部,上述接受皿包括一第1板材<88,92>,其被折曲为剖面呈「V」字型或逆「V」字型的平板状;复数个平板状第2板材<87,91>,其以该第1板材为中心、而对称设置于该第1板材两侧,并且相互间隔而与该第1板材整体呈剖面「V」字型或逆「V」字型般配置。13.如申请专利范围第12项所述之乾燥装置,其中该接受皿更包括一对整流构件<89>,其设置于上述接受皿之复数个第2板材,距离上述第1板材最远的位置,亦即配置于最外侧,用以集中从上述接受皿下方往上流动的蒸气流体<84>。14.如申请专利范围第1.2.3.8.9.10.11.12.或13项所述之乾燥装置,其中上述扩散防止装置包括设于上述开口部两侧相对的喷出装置<13>以及排气装置<14>,上述排气装置将开口的排气口设定为朝向上述喷出装置,上述喷出装置接受供给的气体,而使上述气体产生流向上述排气口且覆盖上述开口部的喷出流体<21>,上述处理槽,其侧壁从下方向上述开口部接近,因而具有向内侧平滑弯曲的弯曲部。15.一种使用申请专利范围第1.2.3.8.9.10.11.12、或13项所述之乾燥装置,以乾燥上述处理对象物之基板表面的乾燥方法,包括下列步骤:准备上述乾燥装置;利用供给上述溶媒液于上述处理槽,以贮存上述溶媒液的一部分于上述处理槽;利用驱动上述加热器,将上述溶媒液加热;利用通过上述开口部,将上述基板置入上述处理槽;将上述置入的基板维持于上述溶媒液的液面上方,并藉由上述加热的溶媒液蒸气,以乾燥上述基板表面;以及藉由通过上述开口部取出上述乾燥处理后的基板于上述处理槽的外部。图式简单说明:第一图为第1实施例的装置之立体剖面图;第二图为以各实施例为基础的装置前视剖面图;第三图为第1实施例的装置之前视剖面图;第四图为第1实施例的装置之侧视剖面图;第五图为第2实施例的装置之前视剖面图;第六图为第3实施例的装置之侧视剖面图;第七图为第4实施例的装置之侧视剖面图;第八图为第5实施例的装置之立体剖面图;第九图为第5实施例的装置之部分放大剖面图;第十图为第6实施例另一例的装置部分放大剖面图;第十一图为当作第6实施例装置之部分构件的喷嘴之剖面图;第十二图为第7实施例的装置之侧视剖面图;第十三图为第8实施例的装置之侧视剖面图;第十四图为第8实施例的控制部之区块图;第十五图为第9实施例的装置之部分放大剖面图;第十六图为第9实施例所具备的接受皿之部分放大剖面图;第十七图为第10实施例的装置之部分放大剖面图;第十八图为第10实施例的另一装置之部分放大剖面图;第十九图亦为第10实施例的另一装置之部分放大剖面图;第二十图为第11实施例的装置之前视剖面图;第二十一图为修正例的装置前视剖面图;以及第二十二图为习知装置的前视剖面图。
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