发明名称 MEASUREMENT METHOD MEASUREMENT APPARATUS AND MANUFACTURING METHOD FOR OPTICAL ELEMENT
摘要 피검물을 매질 내부에 배치하고, 상기 피검물을 투과한 빛의 파면들을 복수의 파장에서 계측한다. 상기 복수의 파장에서 계측된 상기 피검물의 상기 투과 파면들과, 특정한 군 굴절률 분포를 갖는 기준 피검물이 상기 매질 내부에 배치되어 있을 때 복수의 파장에서의 투과 파면들로부터, 상기 피검물의 상기 투과 파면들과 상기 기준 피검물의 상기 투과 파면들의 차분에 해당하는 파면수차의 파장에 관한 변화율을 산출한다. 상기 파면수차의 파장에 관한 상기 변화율에 근거하여, 상기 피검물의 굴절률 분포를 산출한다.
申请公布号 KR20160142235(A) 申请公布日期 2016.12.12
申请号 KR20160066288 申请日期 2016.05.30
申请人 캐논 가부시끼가이샤 发明人 스기모토 토모히로
分类号 G01N21/41;G01N21/59;G01N21/894 主分类号 G01N21/41
代理机构 代理人
主权项
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