| 主权项 |
1.一种「瓦斯炉架之改良结构」,主要包括有四组独立组件及四组套合组件,其中:独立组件,状略呈L形,其弯角处固设有一支撑脚,该支撑脚两侧边面上分别镂有若干方孔;套合组件,系由一套合板及一支撑脚所组成,其中:套合板,状略呈ㄇ字形,其适当位置处设有一凹槽,该凹槽上并镂有适当大小之孔;又,该套合板两端适当处分别延伸形成有一插固条;支撑脚,系采活动式设计,其下端延伸形成有三插脚,且令中间插脚较长并镂有一孔;如此一来,使得本创作于实施上具有组装拆卸简易方便、调整容易、省时省力、适用性增广及稳定性极佳等之实用价値者。2.如申请专利范围第1项之所述一种「瓦斯炉架之改良结构」,其中,该凹槽深度略同于套合板之厚度者。3.如申请专利范围第1项之所述一种「瓦斯炉架之改良结构」,其中,该独立组件之方孔得以一圆孔,套合板上镂有若干大小相同之圆孔,藉由一组螺丝调整瓦斯炉架大小者。4.如申请专利范围第1项或第3项之所述一种「瓦斯炉架之改良结构」,其中,该支撑脚上适当处得分别镂有一椭圆孔,并分别增设一支撑板,该支撑板上镂有圆孔,藉由一组螺丝来调整固定者。图式简单说明:第一图系习用物立体外观图之一。第二图系习用物立体外观示意图之二。第三图系习用物立体外观示意图之三。第四图系本创作立体结构分解图。第五图系本创作AA剖面示意图。第六图系本创作实施例图之一。第七图系本创作实施例图之二。第八图系本创作另一立体结构特征示意图。第九图系本创作另一实施例图之一。第十图系本创作另一实施例图之二。第十一图系本创作另一实施例图之三。 |
