发明名称 流体控制装置
摘要 配置在流体控制器的出入口之遮断开放器为:具有1个2埠阀的遮断开放器,具有1个2埠阀与1个3埠阀的遮断开放器,具有1个2埠阀与2个3埠阀的遮断开放器,具有2个3埠阀的遮断开放器94,及具有3个3埠阀的遮断开放器的5种中任一种。所有型式的遮断开放器之2埠阀的阀本体被形成为入口及出口都设于下面的同一形状,所有型式的遮断开放器的3埠阀之阀本体即被形成为,除了经常连通的入口及出口之外再在下面设置副出入口的同一形状。
申请公布号 TW372328 申请公布日期 1999.10.21
申请号 TW087102012 申请日期 1998.02.13
申请人 大见忠弘;富士金股份有限公司 发明人 大见忠弘;唐土裕司;山路道雄;田中林明;平尾圭志
分类号 H01L21/00 主分类号 H01L21/00
代理机构 代理人 何金涂
主权项 1.一种流体控制器,其特征为,具有多数流体控制器及在各流体控制器的入口边侧及出口边侧分别配置的多数遮断开放器,各遮断开放器系由所相邻的阀互相间不经由软管连接的多数阀或,各遮断开放器为,具有1个2埠阀的2型遮断开放器,具有1个2埠阀及1个及3埠阀的2-3型遮断开放器,具有1个2埠阀及2个3埠阀2-3-3型遮断开放器,具有2个3埠阀的3-3型遮断开放器,及具有3个3埠阀的3-3-3型遮断开放器等5种中的任一种,所有型式的遮断开放器之2埠阀的阀本体为入口及出口设于下面的同一形状,所有型式的遮断开放器之3埠阀的阀本体被构成为,除经常连通的入口及出口外,再加上将副出入口设置在下面的同一形状者。2.如申请专利范围第1项的流体控制装置,其中最少1个流体控制器为流通1种流体,在该流体控制器的入口边侧及出口边侧分别配置2型遮断开放器者。3.如申请专利范围第1项的流体控制装置,其中最少1个流体控制器为流通2种流体,在该流体控制器的入口边侧及出口边侧分别配置2-3型遮断开放器者。4.如申请专利范围第1项的流体控制装置,其中最少1个遮断开放器为流通2种流体的同时,并在其出口边侧设置真空导引通路,在该流体控制器的入口边侧配置2-3型遮断开放器,出口边侧即配置2-3-3型遮断开放器者。5.如申请专利范围第1项的流体控制装置,其中最少1个流体控制器为流通2种流体的同时,并在其入口边侧及出口边侧之间设有不通过流体控制器的旁通路,在该流体控制器的入口边侧及出口边侧分别配置3-3型遮断开放器者。6.如申请专利范围第1项的流体控制装置,其中最少1个流体控制器为流通2种流体的同时,并在其出口边侧设有真空导引通路,在其入口边侧及出口边侧之间设有不通过流体控制器的旁通路,在该流体控制器的入口边侧配置3-3型遮断开放器,在出口边侧即配置了3-3-3型遮断开放器者。图式简单说明:第一图表示依据本发明的流体控制装置一具体例平面图。第二图表示构成依据本发明的流体控制装置的5种管线之流程图。第三图表示第二图的5种管线所使用遮断开放器之所有种类。第四图表示依据本发明本发明的流体控制装置的一个管线之1例的正面图。第五图表示同上分解斜视图,其一部份表示其剖面。第六图表示同上流体控制装置的扩大斜视图,其部份表示剖面。第七图表示依据本发明的流体控制装置所使用接头构件之变形例的斜视图。第八图表示第一图所示流体控制装置所对应先前流体控制置平面图。第九图表示构成流体控制装置的5种管线流程图。
地址 日本