发明名称 |
PHOTOSENSITIVE RESIN COMOPSITION PHOTOCURABLE PATTERN FORMED FROM THE SAME AND IMAGE DISPLAY COMPRISING THE PATTERN |
摘要 |
본 발명은 착색 감광성 수지 조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게는 특정 반복 단위를 포함하는 알칼리 가용성 수지 및 안트라센계 화합물을 포함함으로써, 광경화 패턴으로 형성시 낮은 각도의 테이퍼 프로파일을 구현할 수 있으며, 이에 따라, 화상표시장치의 빛샘을 감소시킬 수 있는 착색 감광성 수지 조성물 및 이를 사용하여 형성된 광경화 패턴에 관한 것이다. |
申请公布号 |
KR20160115337(A) |
申请公布日期 |
2016.10.06 |
申请号 |
KR20150042754 |
申请日期 |
2015.03.26 |
申请人 |
DONGWOO FINE-CHEM CO., LTD. |
发明人 |
CHO, SEOK JIN;KIM, BONG KYU;KIM, SU HO |
分类号 |
G03F7/033;G02B5/20;G03F7/00;G03F7/004 |
主分类号 |
G03F7/033 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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