| 发明名称 | 用于溅射的电源装置和使用该装置的溅射设备 | ||
| 摘要 | 本发明提供用于溅射的电源装置,通过在放电开始压力以下实现稳定的溅射,使由于与用于溅射的惰性气体的碰撞产生的溅射粒子的散射减少,可以改善阶梯覆盖度和改善溅射膜的致密性。按照本发明,提供用于溅射的电源装置,它包括溅射用直流电源(A),与该直流电源连接的恒流电路(B),与该恒流电路(B)连接的溅射源(21),和进行控制使从恒流电路(B)输出的电流变为恒定电流的控制部分(11)。 | ||
| 申请公布号 | CN1248298A | 申请公布日期 | 2000.03.22 |
| 申请号 | CN98802718.6 | 申请日期 | 1998.02.19 |
| 申请人 | 芝浦机械电子装置股份有限公司 | 发明人 | 栗山升;谷津丰;宇都宫信明;安本裕二 |
| 分类号 | C23C14/34;C23C14/54;H01L21/203;H01L21/285 | 主分类号 | C23C14/34 |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 余朦;穆德骏 |
| 主权项 | 1.一种用于溅射的电源装置，它包括：溅射用直流电源，与该直流电源连接的恒流电路；与该恒流电路连接的溅射源；以及控制部分，用于控制从所述恒流电路输出的电流使之成为恒定电流。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||