Batch type apparatus for processing substrate

摘要

본 발명은 슬롯 도어를 이용하여 슬롯을 개별적으로 개폐함으로써 챔버 내부의 열손실을 방지하여 기판 처리 공정의 효율성을 향상시킬 수 있게 하는 배치식 기판 처리 장치에 관한 것으로서, 복수개의 기판들을 처리할 수 있는 배치식 기판 처리 장치로서, 복수개의 상기 기판들이 로딩 및 언로딩될 수 있도록 일측에 출입구가 형성되고, 내부에 상기 기판들을 층별로 지지할 수 있는 복수개의 슬롯들이 형성될 수 있는 챔버를 포함하는 본체; 상기 본체의 상기 출입구를 개폐할 수 있는 출입구 도어; 및 상기 출입구 도어의 개방시, 열 손실을 방지할 수 있도록 상기 본체의 상기 슬롯들을 개별적으로 개폐할 수 있는 슬롯 도어;를 포함할 수 있다.