发明名称 粉末填充装置及方法
摘要 本发明系提供用于计量式输送微粉至一收纳开口之方法、系统及装置。根据一具体实施例,本案系提供一种装置,该装置包含一个具有一开口的料斗。该料斗可适应于收纳一层微粉。亦设有至少一腔室,该腔室系可移动而容许邻接于该开口。一个具有一近端及一远端的元件被设置于该料斗内,以使得该远端接近于该开口。设置一振动器马达,当该元件于微粉内部时,该马达可振动该元件。
申请公布号 TW404920 申请公布日期 2000.09.11
申请号 TW087116809 申请日期 1998.10.09
申请人 吸入治疗系统公司 发明人 高登.史陶特;晓元.潘;麦克J.罗奇欧;凯尔A.纳多;狄瑞克J.帕克斯;派屈克.莱希
分类号 B65B1/36 主分类号 B65B1/36
代理机构 代理人 恽轶群 台北巿南京东路三段二四八号七楼;陈文郎 台北巿南京东路三段二四八号七楼
主权项 1.一种输送微粉之方法,其包含:放置微粉于一料斗其中有一开口;振动一振动元件于微粉内部于开口附近;及捕集至少部分送出开口的微粉于一腔室,其中该被捕集的粉末充分未压密故当其由腔室移出时可分散。2.如申请专利范围第1项之方法,其中该振动元件系相对于料斗内之粉末上下振动。3.如申请专利范围第2项之方法,其中该振动元件系偶联至超音波角,及其中该振动步骤包含引动超音波角。4.如申请专利范围第1项之方法,其中该振动元件系于约1,000Hz至约180,000Hz范围之频率振动。5.如申请专利范围第1项之方法,其中该振动元件具有一远端位置接近开口,其中该远端具有一端件附接其上而可于腔室上方振动。6.如申请专利范围第1项之方法,其中该端件系与腔室垂直隔开约0.01毫米至约10毫米范围之距离。7.如申请专利范围第1项之方法,其进一步包含移动元件跨越开口同时振动元件。8.如申请专利范围第6项之方法,其进一步包含以低于约100厘米/秒之速率顺着开口平移元件。9.如申请专利范围第7项之方法,其进一步包含定期均平粉末于料斗。10.如申请专利范围第9项之方法,其中该均平步骤包含设置一凸件于旋转件而其所在位置系与旋转件之远端隔开。11.如申请专利范围第1项之方法,其中多个腔室对正开口,及进一步包含顺着开口移动旋转元件而移动通过各腔室。12.如申请专利范围第1项之方法,其中该微粉包含一种药物系由平均尺寸约1微米至100微米之个别粒子组成。13.如申请专利范围第1项之方法,其中该捕集步骤进一步包含抽取空气通过位于开口下方之腔室,其中该被抽取的空气可辅助抽取微粉至腔室内部。14.如申请专利范围第1项之方法,其进一步包含移送被捕集的粉末由腔室至收纳开口。15.如申请专利范围第14项之方法,其中该移送步骤包含将压缩气体引进腔室内而将被捕集的粉末排放入收纳开口内。16.如申请专利范围第1项之方法,其进一步包含调整被捕集粉末量为单位剂量。17.如申请专利范围第16项之方法,其中该调整步骤包含提供一片薄片于料斗下方,薄板具有孔口其对正腔室,及进一步包含相对于薄板移动腔室而由腔室刮除过量粉末。18.如申请专利范围第1项之方法,其中该料斗为一次料斗,及其中该设置步骤包含移送粉末由二次料斗至一次料斗。19.如申请专利范围第18项之方法,其进一步包含振动二次料斗而移送粉末至一次料斗。20.如申请专利范围第1项之方法,其进一步包含由腔室配送粉末及改变腔室大小。21.一种输送微粉之装置,其包含:一料斗其中有一开口,该料斗适合接纳微粉;至少一腔室其可移动而允许腔室定位于开口之紧邻附近;一振动元件其具有一近端及一远端,振动元件可定位于料斗内部而使其远端接近开口;及一振动器马达而当位于微粉内部时可振动振动元件。22.如申请专利范围第19项之装置其进一步包含平移旋转件于腔室之机构。23.如申请专利范围第20项之装置,其进一步包含一旋转件其具有复数腔室环绕于周边,其可对正开口,及其中该平移机构之构造可沿开口平移旋转件,故使旋转件通过各腔室。24.如申请专利范围第21项之装置,其中该平移机构包含线性驱动机构其系以低于约100厘米/秒之速率沿开口平移旋转件。25.如申请专利范围第21项之装置,其中该振动器马达系以约1,000Hz至约180,000Hz范围之频率振动振动元件。26.如申请专利范围第21项之装置,其中该振动器包含一超音波角,其相对于粉末以上下运动振动元件。27.如申请专利范围第26项之装置,其中该振动元件之几何形状为柱形及具有直径于约1.0毫米至约10毫米之范围。28.如申请专利范围第27项之装置,其进一步包含一端件于振动元件远端。29.如申请专利范围第28项之装置,其中该端件系由旋转件沿径向方向向外伸出。30.如申请专利范围第28项之装置,其进一步包含一粉末均平作间隔于端件上方。31.如申请专利范围第21项之装置,其中该腔室系设置于旋转件内部,其系位于第一位置而使腔室对正开口,及于第二位置而使腔室对正收纳开口。32.如申请专利范围第21项之装置,其进一步包含一埠口于腔室底,及一真空源与埠口连通俾辅助抽取微粉由料斗进入腔室内部。33.如申请专利范围第32项之装置,其进一步包含一过滤器设置跨越埠口。34.如申请专利范围第34项之装置,其进一步包含一压缩气体源连通该埠口而将捕集的粉末由腔室射入收纳开口内。35.如申请专利范围第31项之装置,其进一步包含一控制器用以控制气体源及真空源之引动。36.如申请专利范围第31项之装置,其进一步包含复数料斗设置于复数旋转件上方,其各自包含复数腔室,及进一步包含复数元件及复数振动器俾振动该等元件。37.如申请专利范围第21项之装置,其进一步包含一平板设置于料斗下方,该平板有一孔口其系对正腔室,及其中该腔室可相对于平板移动而使过量粉末由腔室刮除。38.如申请专利范围第21项之装置,其中该料斗为一次料斗及进一步包含一二次料斗设置于一次料斗上方俾移送粉末至一次料斗。39.如申请专利范围第38项之装置,其进一步包含一摇摆机构而振动二次料斗。40.如申请专利范围第31项之装置,其中该腔室系于更换工具内形成,及其中该更换工具系活动式偶联至旋转件。41.一种输送微粉之系统,其包含:复数旋转件其各自具有一排腔室环绕其周边;一料斗设置于各旋转件上方,其中各料斗包括一开口;一旋转件其可定位于各该料斗内部,其中各旋转件具有一远端其系接近该开口;一振动器偶联至各旋转元件而以上下运动振动该等元件;及一机构用以于振动元件振动时沿各该料斗平移各振动元件。42.如申请专利范围第41之系统,其进一步包含一控制器用以控制旋转件、振动器及平移机构之旋转。图式简单说明:第一图为根据本发明用于输送微粉之范例装置之剖面侧视图。第二图为第一图装置之端视图。第三图为第一图装置之腔室之细节图,显示根据本发明于腔室上方平移之振动杆。第四图为根据本发明输送粉末之范例系统之左前透视图。第五图为第四图系统之右前透视图。第六图为第四图系统之剖面图。第七图为根据本发明之输送微粉之替代装置之示意图。第八图为根据本发明之输送微粉之又另一替代装置之示意图。第九图为根据本发明之输送微粉之又另一替代装置之示意图。第十图为根据本发明之输送微粉之又一替代装置之示意图。第十一图为第十图装置沿视线11-11所取剖面图。第十二图为第十图装置沿视线12-12所取剖面图。第十三图为第十图装置之旋转件之分解图。第十四图A为由旋转件腔室刮除过量粉末之刮除机构之示意图。第十四图B为第十四图A之刮除机构安装于旋转件上方之端视图。第十四图C为根据本发明由旋转件腔室刮除过量粉末之替代机构之透视图。第十五图为根据本发明之特佳输送粉末系统之透视图。
地址 美国