发明名称 金属/铁氧体叠片磁铁及其制造方法
摘要 本发明一般系关于一种新的金属/铁氧体叠片磁铁及其制造方法。更特定言之,本发明包含用于大面积叠片磁铁之制造的新制造方法,磁铁具有相当数目的预成型孔洞、整合的金属板和用于电子及电子束控制的电极。本发明也关于磁性矩阵和电子束源及其制造方法。
申请公布号 TW407286 申请公布日期 2000.10.01
申请号 TW087107068 申请日期 1998.05.07
申请人 万国商业机器公司 发明人 约翰U.柯尼可勃克;詹姆斯N.胡梅尼;罗伯洛仙勃格;安祖R.柯诺可思
分类号 H01F1/09 主分类号 H01F1/09
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 1.一种形成金属/铁氧体叠片磁铁之制程,包含步骤:(a)形成至少一个开口于具有第一表面和第二表面的金属薄片中,(b)固定至少一层铁氧体层至该金属薄片的该第一表面,(c)固定至少一层介电物层至该金属薄片的该第二表面,(d)形成一空孔穿过该铁氧体层和该介电物层,如此至少该开口的一部分重叠该属薄片中之该开口的一部分,因此形成该金属/铁氧体叠片磁铁。2.如申请专利范围第1项之制程,其中该金属薄片中的该至少一个开口藉由至少一层光阻的施加至该金属薄片上,曝光并显影该光阻以形成孔洞样式,及接着蚀刻该金属薄片以形成该至少一个开口于该金属薄片中而形成。3.如申请专利范围第1项之制程,其中该金属薄片中的该至少一个开口以雷射束、电子束或机械装置形成。4.如申请专利范围第1项之制程,包含混合铁氧体材料与玻璃颗粒、有机黏结剂和溶剂以形成铁氧体浆液;混合、铸造并乾燥该铁氧体浆液,成为铁氧体生胚片;并使该铁氧体生胚片空白,成为该至少一层铁氧体层。5.如申请专利范围第1项之制程,包含混合介电物材料以形成介电物浆液;混合、铸造并乾燥该介电物浆液,成为介电物生胚片;并使该介电物生胚片空白,成为该至少一层介电物层。6.如申请专利范围第1项之制程,其中该至少一层铁氧体层藉由热及/或压力的施加而固定于该金属薄片的该第一表面。7.如申请专利范围第1项之制程,其中该至少一层铁氧体层藉由至少一种黏着剂的施加而固定于该金属薄片的该第一表面。8.如申请专利范围第1项之制程,其中该至少一层介电物层藉由热及/或压力的施加而固定于该金属薄片的该第二表面。9.如申请专利范围第1项之制程,其中该至少一层介电物层藉由至少一种黏着剂的施加而固定于该金属薄片的该第二表面。10.如申请专利范围第1项之制程,其中至少一种电气导电金属邻接于该开口而固定。11.如申请专利范围第1项之制程,更包含固定至少一个阳极装置于该磁铁的该穿孔面上。12.如申请专利范围第1项之制程,更包含固定至少一个控制栅极装置于该磁铁远离该承载阳极装置之面的该面上。13.如申请专利范围第12项之制程,其中该阳极装置和该控制栅极装置使用一种选自含有光微影术、网版印刷、转印图样移转、电镀或黏着剂形成样式,接着至少一种电气导电介质之乾式沉积之群体的制程加以沉积。14.如申请专利范围第1项之制程,其中该开口的横断面选自含有圆形横断面、多边形横断面、三角形横断面或长方形横断面之群体。15.如申请专利范围第1项之制程,其中该铁氧体层中的该开口藉由部分烧结该铁氧体层并使用加压撞击介质以打开至少一个孔洞而形成。16.如申请专利范围第1项之制程,其中将两个的该金属/铁氧体叠片磁铁彼此固定,如此,该金属薄片将该铁氧体材料夹在中间且该介电物材料位于相对侧面上。17.如申请专利范围第1项之制程,包含混合铁氧体材料与玻璃颗粒、有机黏结剂和溶剂以形成铁氧体浆液;且其中使用至少一次喷洒将该铁氧体浆液沉积至该金属薄片上。18.如申请专利范围第1项之制程,包含混合介电物材料以形成介电物浆液;且其中使用至少一次喷洒将该介电物浆液沉积至该金属薄片上。19.如申请专利范围第1项之制程,包含加热该金属薄片到至少300℃并沉积乾燥的铁氧体粉末材料至该加热的金属薄片上,直到至少一层该铁氧体材料涂层形成于该金属薄片上。20.如申请专利范围第1项之制程,包含加热该金属薄片到至少300℃并沉积乾燥的介电物粉末材料至该加热的金属薄片上,直到至少一层该介电物材料涂层形成于该金属薄片上。21.如申请专利范围第1项之制程,其中施加至少一种黏着剂至该金属薄片上并使用该至少一种黏着剂,将至少一层乾铁氧体粉末材料黏着至该金属薄片。22.如申请专利范围第1项之制程,其中施加至少一种黏着剂至该金属薄片上并使用该至少一种黏着剂,将至少一层乾介电物粉末材料黏着至该金属薄片。23.如申请专利范围第1项之制程,其中将该金属薄片的至少一个表面氧化以形成至少一层介电物层。24.如申请专利范围第1项之制程,其中该金属薄片对任何逸散电子而言,是一电子沉陷处。25.如申请专利范围第1项之制程,其中该金属薄片是一散热器,以使任何的热梯度减至最小。26.如申请专利范围第1项之制程,其中该金属薄片防止该叠片磁铁的任何扭曲。27.如申请专利范围第1项之制程,其中该金属薄片用作为罩幕,以形成至少一层的萤光粉于至少一个萤幕上。28.如申请专利范围第1项之制程,其中该叠片磁铁用作为罩幕,以形成至少一层的萤光粉于至少一个萤幕上。29.如申请专利范围第1项之制程,其中该金属薄片中的该孔洞用以在该叠片磁铁的接续组成部分中形成对应孔洞,且其中该所有对应形成的孔洞保持与该金属薄片中的该孔洞对准。30.一种制作显示器装置之制程,包含:根据申请专利范围第1项中所声请的该制程制造电子源,定位涂布萤光粉的萤幕邻接承载阳极装置之该磁铁的该面,及,将该电子源之间和该磁铁与该萤幕之间的空间抽真空。31.一种电子源,包含,至少一个阴极装置和至少一个金属/铁氧体叠片磁铁,其中该磁铁具有很多延伸于该磁铁之相反磁极之间的磁性通道,其中每一条磁性通道容许接收自该阴极装置的电子流动成为电子束,射向靶材。32.如申请专利范围第31项之电子源,更包含至少一个栅极电极装置,其配置于该阴极装置和该磁铁之间,用于控制从该阴极装置进入该通道的该电子流动。33.如申请专利范围第32项之电子源,其中该通道以横列和纵行组成的二维阵列配置于该磁铁中。34.如申请专利范围第31项之电子源,其中该磁铁具有栅极电极装置,且其中该栅极电极装置包含很多的平行横列导体和很多正交于该横列导体排列的平行纵行导体,且其中每一条通道位于横列导体和纵行导体的不同交叉位置。35.如申请专利范围第34项之电子源,其中该栅极电极装置配置于该阴极装置面向该磁铁的该表面上。36.如申请专利范围第34项之电子源,其中该栅极电极装置配置于该磁铁面向该阴极装置的该表面上。37.如申请专利范围第31项之电子源,其中该阴极装置包含场发射元件装置。38.如申请专利范围第31项之电子源,其中该阴极装置包含光阴极。39.如申请专利范围第31项之电子源,其中至少一条该通道沿着它的长度变化横断面。40.如申请专利范围第31项之电子源,其中至少一条该通道形成锥状,且其中具有最大表面区域的该通道末端面向该阴极装置。41.如申请专利范围第31项之电子源,其中该通道的横断面选自含有圆形横断面、多边形横断面、三角形横断面或长方形横断面之群体。42.如申请专利范围第31项之电子源,其中该每一条通道的角落和边缘予以截角。43.如申请专利范围第31项之电子源,其中该磁铁包含一叠的穿孔叠片,每一叠片中的该贯穿孔与邻接叠片中的该贯穿孔对齐以维持该通道穿过该堆叠。44.如申请专利范围第43项之电子源,其中该堆叠中的每一叠片以间隔物与邻接之叠片隔开。45.如申请专利范围第31项之电子源,其中该金属薄片提供等电位表面,用于均匀的电子加速。46.如申请专利范围第31项之电子源,更包含沉积于该磁铁之至少一个表面上的至少一层绝缘层。47.如申请专利范围第31项之电子源,更包含至少一个阳极装置,其配置于该磁铁远离该阴极的该表面上,用于加速电子穿过该通道。48.如申请专利范围第47项之电子源,其中该阳极装置包含很多平行于该纵行通道延伸的阳极,该阳极包含阳极对,每一对对应于不同的纵行通道,每一对包含分别沿着该对应纵行阳极之相对侧边延伸的第一和第二阳极,该第一阳极互相连接且该第二阳极互相连接。49.如申请专利范围第48项之电子源,其中该第一和第二阳极包含环绕着该通道之角落的平面形成。50.如申请专利范围第48项之电子源,更包含至少一种装置,用于施加偏向电压于该第一和第二阳极之间以使自该通道出现的电子束偏向。51.一种显示器装互,包含:申请专利范围第31项之电子源;接收来自该电子源之电子的萤幕,该萤幕具有面向该磁铁远离该阴极之该面的萤光粉涂层;和供应控制讯号至该栅极电极装置及该阳极装置,以选择性地控制自该阴极经由该通道而至该萤光粉涂层的电子流动,因此而产生影像于该萤幕上的装置。52.如申请专利范围第51项之显示器装置,其中该萤光粉包含单色萤光粉。53.如申请专利范围第51项之显示器装置,其中该萤光粉包含红、绿、和蓝色萤光粉。54.如申请专利范围第53项之显示器装置,其中该偏向装置加以排列以使自该通道出现的电子定址至以该重复顺序红、绿、红、蓝、...排列的该不同萤光粉。55.如申请专利范围第51项之显示器装置,包含配置于该萤光粉涂层上的最终阳极层。56.如申请专利范围第51项之显示器装置,其中该萤幕在至少一个方向上是弧状的,且相邻第一阳极之间和相邻第二阳极之间的每一个互相连接包含一个电阻性元件。57.如申请专利范围第51项之显示器装置,包含动态地变化施加至该阳极装置之DC大小,以使自该通道出现的电子与萤幕上之该萤光粉涂层对齐的装置。58.如申请专利范围第51项之显示器装置,包含邻接该萤光粉涂层的铝背衬层。59.一种显示器装置,包含:申请专利范围第31项之电子源;接收来自该电子源之电子的萤幕,该萤幕具有面向该磁铁远离该阴极之该面的萤光粉涂层,该萤光粉涂层包含很多组的不同萤光粉这些萤光粉组以重复的样式排列,每一组对应于不同的通道;供应控制讯号至该栅极电极装置及该阳极装置,以选择性地控制自该阴极经由该通道而至该萤光粉涂层之电子流动的装置;和供应偏向讯号至该阳极装置,以接续地使来自该通道之电子定址至该萤光粉涂层之该不同萤光粉,以产生彩色影像于该萤幕的偏向装置。60.如申请专利范围第59项之显示器装置,其中该萤光粉包含单色萤光粉。61.如申请专利范围第59项之显示器装置,其中该萤光粉包含红、绿、和蓝色萤光粉。62.如申请专利范围第61项之显示器装置,其中该偏向装置加以排列以使自该通道出现的电子定址至以该重复顺序红、绿、红、蓝、...排列的该不同萤光粉。63.如申请专利范围第59项之显示器装置,包含配置于该萤光粉涂层上的最终阳极层。64.如申请专利范围第59项之显示器装置,其中该萤幕在至少一个方向上是弧状的,且相邻第一阳极之间和相邻第二阳极之间的每一个互相连接包含一个电阻性元件。65.如申请专利范围第59项之显示器装置,包含动态地变化施加至该阳极装置之DC大小,以使自该通道出现的电子与萤幕上之该萤光粉涂层对齐的装置。66.如申请专利范围第59项之显示器装置,包含邻接该萤光粉涂层的铝背衬层。67.一种电脑系统,包含:记忆装置;数据转移装置,用于转移数据至该记忆装置且自其转回;处理器装置,用于处理储存在该记忆装置中的数据;和申请专利范围第51项之显示器装置,用于显示由该处理器装置所处理的数据。68.一种电脑系统,包含:记忆装置;数据转移装置,用于转移数据至该记忆装置且自其转回;处理器装置,用于处理储存在该记忆装置中的数据;和申请专利范围第59项之显示器装置,用于显示由该处理器装置所处理的数据。69.一种印字头,包含申请专利范围第31项之该电子源。70.一种文书处理装置,包含一申请专利范围第69项之印字头,和供应数据至该印字头,以根据该数据产生列印记录的装置。71.一种可用于显示器之装置,包含:至少一个阴极装置;至少一个金属/铁氧体叠片磁铁,其中该磁铁具有很多延伸于该磁铁之相反磁极之间的磁性通道,其中每一条磁性通道容许接受自该阴极装置的电子流动成为电子束;配置于该阴极装置和该磁铁之间的栅极电极装置,用于控制自该阴极装置进入该通道的电子流动;和,配置于该磁铁远离该阴极之该表面上的阳极装置,用于加速电子穿过该通道。72.如申请专利范围第71项之装置,其中在该阴极和该磁铁之间维持真空。图式简单说明:第一图图示本发明的一个较佳具体实施例,其处金属/铁氧体叠片磁铁将电子束自阴极导引至显示器面板。第二图图示出自阴极平面看过来之叠片磁铁的底侧或背侧视图。第三图图示出自最终阳极平面看过来之叠片磁铁的上侧或前侧视图。第四图--第十图图示出本发明之较佳具体实施例,特别是叠片金属/铁氧体磁铁,之制造的一种制造方法。
地址 美国