| 主权项 |
1.一种用用来导引一束电磁辐射的光学系统,该系统具有至少一种从第一媒介到第二媒介的转变,其特征为:在该转变之区域处所提供的一种抗反射涂层包括至少两个子涂层,它们都是针对不同入射角而呈现最大抗反射性。2.根据申请专利范围第1项之光学系统,其特征为:每个子涂层皆由至少两个不同材料层组成。3.根据申请专利范围第2项之光学系统,其特征为:涂层包括一种七个双层式子涂层的堆叠,每个子涂层皆由两个不同材料层组成,该子涂层都是分别针对0,15,30,40,45,50及55之入射角而呈现最大抗反射性。4.根据申请专利范围第2项之光学系统,其特征为:涂层包括一种双层式子涂层和各自由三个不同材料层组成之三层式子涂层的组合。5.根据申请专利范围第4项之光学系统,其特征为:涂层包括一种诸多双层式子涂层的第一堆叠以及一种诸多三层式子涂层的第二堆叠。6.根据申请专利范围第5项之光学系统,其特征为:第一和第二堆叠各自包括八个子涂层,而每个子涂层都是分别针对0,10,20,30,40,50,55及60之入射角而呈现最大抗反射性。7.根据前面各项申请专利范围中的任何一项之光学系统,是以一种包括至少一个透镜元件之透镜系统的形式呈现;该透镜元件的两个透镜表面各自构成该转变,而其特征为:两个透镜表面皆配备有该涂层。8.根据申请专利范围第7项之光学系统,其特征为:透镜系统是一种适合用来导引并会聚一UV(紫外线)投影射束的石印投影系统。9.根据申请专利范围第7项之光学系统,其特征为:透镜系统包括一物镜以及一平凸透镜,其凸出面是面对物镜的。10.一种石印投影装置包括:用来供应投影射束之一UV(紫外线)辐射源;用来支撑打算投影之光罩的光罩座;用来支撑基底之一基底座,打算将光罩投影在其上;以及布置在光罩座与基底座之间的投影系统;该装置的特征为:投影系统是一种根据申请专利范围第8项的光学系统。11.一种用来扫描具有一资讯平面和一透明基底之一光学记录载体的光学扫描装置,该装置包括:用来供应扫描射束之一辐射源;以及用来会聚穿过基底之扫描射束,以便在资讯层上形成一扫描光点之一透镜系统;该装置的特征为:透镜系统是一种根据申请专利范围第9项的系统,其中平凸透镜的平整面是面对着基底。图式简单说明:第一图显示:在一射束内,在一透镜元件表面上的诸多不同入射角;第二图显示:在射束内,诸多不同入射角对强度分布的效应;第三图显示:就具有不同数目层的涂层和0之设计角而言,针对S和P偏振辐射(polarized radiation)的反射系数作为入射角之一函数;第四图显示:分别就具有0和50之设计角的两种不同双层式涂层而言,平均反射系数作为入射角之一函数;第五图显示:一种具有大数値孔径的透镜系统之一实施例;第六图显示:一种根据本发明的抗反射涂层之第一实施例;第七图显示:就不同抗反射涂层,特别是,根据本发明的那些涂层而言,透镜比作为距第五图之透镜系统之光轴的距离之一函数;第八图显示:一种根据本发明的抗反射涂层之第二实施例;以及第九图显示:一种针对光学记录载体的扫描装置之一实施例,其中使用了本发明。 |
