| 主权项 |
1.井式炉(1),尤其是指直接还原的井式炉,其具有一块状物质的床(2),特别是包含氧化铁及/或海绵铁的块状物质,块状物质的泄料装置(4)位于在井式炉(1)之底部区域的上方,而还原气体的进气口(6)则在泄料装置(4)的上方,其特征为用以移动井式炉(1)材料的装置(7)位于由进气口(6)所形成的区域以及泄料装置(4)所形成的区域之间。2.根据专利申请范围第1项之井式炉(1),其特征为用以移动井式炉(1)材料的装置(7)的数目至少是块状材料的泄料装置(4)数目的两倍。3.根据专利申请范围第2项之井式炉(1),其特征为两个移动装置(7)成一对地分配予每一个泄料装置(4),这两个移动装置(7)中的任一个皆位于泄料装置的侧上方,一个在左而另一个在右。4.根据专利申请范围第1至第3项中任一项之井式炉(1),其特征为移动装置(7)被设计为一水平配置的螺旋输送机。5.根据专利申请范围第4项之井式炉(1),其特征为螺旋输送机之配置为径向的。6.根据专利申请范围第4项之井式炉(1),其特征为螺旋输送机的轴凸出于井式炉壁的区域,并且如果需要的话可将其冷却。7.根据专利申请范围第4项中任一项之井式炉(1),其特征为螺旋输送机的轴基本上是圆柱状的,并且如果需要的话当其与井式炉壁的距离增加时,此轴可以是一节距为常数及/或非常数之楔形,否则至少超过它们的长度的部分区域。8.根据专利申请范围第4项之井式炉(1),其特征为螺旋输送机之螺旋面具有一无限大的节距,否则节距至少也在一部分区域。9.根据专利申请范围第4项中井式炉(1),其特征为螺旋输送机之螺旋面是由可替换的叶片及/或固定在其轴上的叶片所组成。10.根据专利申请范围第4项之井式炉(1),其特征为螺旋面的包络面基本上是圆柱状的,而且如果需要的话节距可以为一常数及/或非常数朝内逐渐变细,至少超出一部份区域。11.根据专利申请范围第4项之井式炉(1),其特征为每一个螺旋输送机用以下方法来设计:它输送朝向或来自于井式炉(1)的中心,或是径向地传送至螺旋传送机。12.根据专利申请范围第4项之井式炉(1),其特征在于为了固定的或临时的维修,每一个螺旋输送机皆为轴向地移动。13.根据专利申请范围第4项之井式炉(1),其特征为每一个螺旋输送机都可以连续地或是不连续地,以顺时针方向或是逆时针方向旋转。14.根据专利申请范围第13项之井式炉(1),其特征为两个成一对分配予泄料装置的螺旋输送机之摆荡及/或旋转是指向相反的方向。15.根据专利申请范围第4项之井式炉(1),其特征为螺旋输送机的尖端被设计为钻头。16.根据专利申请范围第4项之井式炉(1),其特征为马达被提供用以驱动螺旋输送机的轴。17.根据专利申请范围第4项之井式炉(1),其特征为感测器被提供用以确认螺旋输送机的钻孔运转。18.根据专利申请范围第4项之井式炉(1),其特征为根据输送特征及/或钻孔运转,一单元被提供用以控制个别的螺旋输送机轴的速度及/或钻孔运转。图式简单说明:第一图:具有泄料装置及角锥但不具有移动装置的井式炉;第二图:具有泄料装置及移动装置的井式炉;第三图:具有泄料装置、移动装置、以及降低的角锥的井式炉;第四图:移动装置平面的俯视图,其中泄料装置位于移动装置之下;第五图:泄料装置的详细图,其中移动装置位于泄料装置上。 |
