| 主权项 |
1.一种景点之间平滑过场的方法,使一起始景点与一目的景点之间产生平滑过场,该起始景点与目的景点分别由一些影像像素与一同轴心所构成,此方法至少包含下列步骤:估计该起始景点与目的景点之间的一水平及垂直旋转角度;找出该起始景点的同轴心与该目的景点个别的同轴心;且利用上述找出之该起始景点与目的景点的同轴心,作失真的调整。2.如申请专利范围第1项所述之景点之间平滑过场方法,复包含下列步骤:从该起始景点至少选定一条控制线,并在该目的景点亦至少选定一条与从上述起始景点至少选定之控制线相对应之控制线;且利用上述选定之控制线,计算该起始景点与目的景点之间的像素流。3.如申请专利范围第2项所述之景点之间平滑过场方法,其中该起始景点的控制线需包围该起始景点之同轴心。4.如申请专利范围第2或3项所述之景点之间平滑过场方法,复包含下列步骤:利用前述像素流,产生该起始景点与目的景点之间一系列中间过场影像。5.如申请专利范围第4项所述之景点之间平滑过场方法,其中产生一系列中间过场影像的步骤,更包括下列步骤:对该起始影像作前向重新取样及对该目的影像作后向重新取样;并对上述这些前向与后向重新取样的影像做合成的动作。6.如申请专利范围第1项所述之景点之间平滑过场方法,其中找出该起始景点与目的景点个别的同轴心之步骤,更包括下列步骤:分别从该起始景点与目的景点分别选定许多组影像点及与之对应的同轴线;以该复数个影像点与对应的同轴线为基础,算出位于其中一景点之一影像点,及与该影像点对应位于另一景点之上述同轴线的一些影像点投影过来的座标位置的误差平方之总合,将该总合当作极小化的相标,并用数値最佳化的方法反覆进行,以找出同轴心位置。7.如申请专利范围第1项所述之景点之间平滑过场方法,其中找出该起始景点与目的景点个别的同轴心之步骤,更包括下列步骤:利用该所估计出的该起始景点与目的景点之间的水平及垂直旋转角度,对该起始景点与目的景点做重新投影,并分别产生一起始视像与一目的视像;且从该起始视像与目的视像,计算出同轴心的位置。8.如申请专利范围第7项所述之景点之间平滑过场方法,其中求出起始景点与目的景点个别的同轴心之步骤,更包括下列步骤:(a)反覆计算从该起始视像与目的视像所选的点至位于分别相对之目的视像与起始视像的对应同轴线之距离,以上述这些距离的平方之总和当作极小化的目标,用数値最佳化的方法找出该起始视像与目的视像个别的同轴心位置;(b)转换该起始视像与目的视像同轴心位置,到在该起始景点与目的景点的对应位置;(c)利用前述起始景点与目的景点同轴心位置,选择起始景点与目的景点之间新的水平及垂直旋转角度,并以此新的水平及垂直旋转角度校准该起始景点与目的景点;(d)对该起始景点与目的景点做重新投影,以得到重新投影的起始视像与目的视像;(e)重复步骤(a),以计算得一新的极小化値,并将上述新的极小化値与前述先前决定之极小化値加以比较;及f)如果该新的极小化値比前述先前决定之极小化値还小,则重复步骤(b)到(e)。9.如申请专利范围第5项所述之景点之间平滑过场方法,其中前述对重新取样的影像做合成的动作之步骤,更包括下列的步骤:依据一时间变动加权函数,将该前向重新取样及后向重新取样总和起来。10.如申请专利范围第5项所述之景点之间平滑过场方法,其中在前述前向重新取样的过程中,如果该前向重新取样景点上的一影像像素,在该前向重新取样景点之前次前向重新取样景点上没有一对应的影像像素,则选择一値给该影像像素。11.如申请专利范围第10项所述之景点之间平滑过场方法,其中前述之选择的値,是在该前向重新取样景点之该前次前向重新取样景点上有一对应的影像像素之一影像像素的値。12.如申请专利范围第5项所述之景点之间平滑过场方法,其中如果该前向重新取样景点之前次前向重新取样景点上有一影像像素是高偏移量点,则将该前向重新取样景点的影像像素値设为零。13.如申请专利范围第5项所述之景点之间平滑过场方法,其中如果该前向重新取样景点上的一影像像素,在该前向重新取样景点之前次前向重新取样景点上有超过一个以上对应的影像像素,则指定其中离该同轴心最近的那一个像素的値给该影像像素。14.如申请专利范围第5项所述之景点之间平滑过场方法,其中如果该后向重新取样景点上的一影像像素,在该后向重新取样景点之前次后向重新取样景点上有超过一个以上对应的影像像素,则指定其中离该同轴心最远的那一个像素的値给该影像像素。15.一种景点之间平滑过场之方法,此方法在环场影像景点间产生一系列影像画面,至少包含下列的步骤:利用环场影像各景点的同轴心,来校准环场影像景点;决定校准过后环场影像景点之间对应影像特征的像素流;利用事先决定的一序列时间与已知的该像素流,对一景点影像作中间前向重新取样并对另一景点对应之影像作后向重新取样;并在每一事先决定的时间序列,合并该前向重新取样的影像与后向重新取样的影像,以产生一系列影像画面。图式简单说明:第一图A与第一图B为显示一个影像景点与视像之间的关系,第一图A为从上往下看的俯视图,第一图B为从侧边看后的结果。第二图是整个环场过场技术发明的详细流程图。第三图是用来陈述同轴几何的关系之图例。第四图为寻找同轴心的方法流程图。第五图到第七图系图例说明控制线。第八图阐述如何计算像素流的流程图。第九图举例说明找不到取样点或多取样点的情况。第十图是产生系列中间过场影像的流程图。 |
