发明名称 METHODS FOR PRODUCING HIGHLY PURE SILICON DIOXIDE GLASS AND BURNER FOR CARRYING OUT THIS METHOD
摘要 <p>Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von reinem Siliziumdioxid, bei dem SiCl4 mittels eines Brenners (4) erhitzt und in Siliziumdioxid und HCl umgesetzt wird. Erfindungsgemäß wird das SiCl4 (3) mit einem vormischenden (11) H2-O2-Brenner (4) erhitzt.</p>
申请公布号 WO2001005719(A1) 申请公布日期 2001.01.25
申请号 EP2000006657 申请日期 2000.07.12
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
地址